[实用新型]一种真空镀膜系统的样品室结构

权利要求书

1.一种真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，包括：

真空腔，该真空腔的顶部固定连接有基准板；

所述基准板上均布有若干个定位孔；

安装于所述基准板下表面的真空纳米定位平台，真空纳米定位平台通过基准板将热量传递给真空腔的腔壁；

所述真空纳米定位平台上安装有基片；

所述真空纳米定位平台的下方设有掩膜支架，掩膜支架与基准板固定连接，且掩膜支架具有掩膜安装孔；

所述真空腔的侧面设有激光尺光路口和多个功能接口；

该真空腔还具有腔体门。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述真空纳米定位平台驱动基片运动，来实现特定形状镀膜的沉积。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述掩膜支架上分布有4个深度互不相同的用于安装掩膜板的掩膜安装孔，实现一次镀膜得到四种不同形状特征的镀膜沉积层。

4.根据权利要求2所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述掩膜支架的投影将所述真空纳米定位平台完全覆盖，使得真空纳米定位平台在镀膜过程中不会受到真空蒸镀上来的原子或分子的影响。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述激光尺光路口为两个，两个激光尺光路口分别设置在真空腔的左侧面和后侧面上。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，掩膜支架相互垂直的两个侧面分别设置有与所述激光尺光路口对应的掩膜支架光路口，来实现对真空纳米平台运动状态的精确非接触实时监测。

7.根据权利要求3所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述基准板到掩膜支架内表面的距离减去基准板到基片表面的距离即为掩膜板与基片之间的距离。

8.根据权利要求3或7所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述掩膜安装孔呈直线排列。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述真空腔还设置有观察孔。

10.根据权利要求1所述的真空镀膜系统的样品室结构，其特征在于，所述真空纳米定位平台包括带有中央凹槽的底座，中央凹槽内设有基片台，基片台的X轴方向经X向柔性铰链固定于底座上，基片台的Y轴方向经Y向柔性铰链固定于底座上，X向柔性铰链上设有X向压电陶瓷驱动器，Y向柔性铰链上设有Y向压电陶瓷驱动器；基片台的X向侧沿上设置有X向光路反射镜，基片台的Y向侧沿上设置有Y向光路反射镜。