[实用新型]高度测量仪有效
申请号: | 201420797531.3 | 申请日: | 2014-12-16 |
公开(公告)号: | CN204313827U | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 张沁园 | 申请(专利权)人: | 张沁园 |
主分类号: | G01C5/00 | 分类号: | G01C5/00 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
地址: | 213200 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高度 测量仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种高度测量仪。
背景技术
高度测量仪,简称高度仪、测高仪,主要用于测量工件的高度,也可测量形状和位置公差尺寸,比如垂直度和直线度。在建筑施工或测绘等领域,经常需要对建筑物的高度进行测量,通常的高度测量方法主要是使用尺子,较低的建筑物可以用米尺测量,较高的建筑物则需要用卷尺或复加式测量,不仅操作不方便,占用人力也非常多,而对于特别高的建筑物,还是用尺子进行测量,会带来很多的误差,而且还会受到周围环境的限制,不适合简单施工中使用,更不适合个人使用;
现在使用的高度测量仪先后多次测量易产生测量误差必然使测量结果产生的系统误差和随机误差均因测量次数的增加而加大,影响测量结果的正确性,另一方面,不仅使用和维护难度大,而且制造难度高、造价不菲,难以普及使用。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:克服现有技术中之不足,提供一种制造和加工方便,造价低廉的高度测量仪。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种高度测量仪,具有带有水平仪的底板,所述的底板上垂直固定有立柱,立柱的一端设置通过转轴连接的圆形刻度盘,圆形刻度盘上标有角度读数刻度,圆形刻度盘的中心位置处设置有手柄,手柄与圆形刻度盘之间设置有挡块和垂直器,挡块的下端开设有凹槽,凹槽内放置有激光发射器,挡块上设置有与激光发射器平行的定位杆。
进一步的,所述的角度读数刻度中的起始读数刻度为水平线,最终读数刻度为垂直线。
进一步的,所述的底板的下端设置有四个可调节支脚,便于调节测量仪的平稳度,使用的场合较多。
进一步的,所述的激光发射器发射的红色激光束与定位杆平行,提高角度的精准度,便于测量。
进一步的,所述的垂直器与立柱的轴线平行,提高测量仪的准确度,便于提高测量的精度,同时使得测量更加的方便。
进一步的,所述的立柱上设置有加强筋,增加立柱的稳定性和牢固性,延长立柱的使用寿命,不易产生变形和损坏,无需经常维修和更换,降低生产成本。
本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,制造和加工方便,使用方便,体积小,测量更加的方便,使用和维护难度小,制造难度低,造价优惠,使用寿命长,降低成本,使用范围广,易于推广。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中1.底板,2.立柱,3.圆形刻度盘,4.手柄,5.凹槽,6.激光发射器,7.角度读数刻度,8.定位杆,9.垂直器,10.挡块,11.可调节支脚,12.加强筋,6-1.红色激光束,7-1.水平线,7-2.垂直线。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图1所示的一种高度测量仪,具有带有水平仪的底板1,底板1可以通过自带的水平仪显示该测量位置是否在水平位置处,保证测试出来的角度和长度的准确度,底板1上垂直固定有立柱2,立柱2上设置有加强筋12,加强筋12延长产品的使用寿命,同时也保证立柱2的垂直度,不易发生弯曲,立柱2的一端设置通过转轴连接的圆形刻度盘3,圆形刻度盘5上标有角度读数刻度7,圆形刻度盘3的中心位置处设置有手柄4,手柄4与圆形刻度盘3之间设置有挡块10和垂直器9,垂直器9与立柱2的轴线平行,挡块10的下端开设有凹槽5,凹槽5内放置有激光发射器6,挡块10上设置有与激光发射器6平行的定位杆8;
角度读数刻度7中的起始读数刻度为水平线7-1,最终读数刻度为垂直线7-2,激光发射器6发射的红色激光束6-1与定位杆8平行,记录红色激光束6-1在圆形刻度盘5上所显示的角度数值,测出刻度盘中心与被测目标底部之间的水平间距,然后根据公式计算出楼房的高度;
底板1的下端设置有四个可调节支脚11,可调节支脚11便于在不平整的地面上进行测量,适应各种地理环境,不会导致产品的无法使用,易于推广,制造和加工方便,使用方便,体积小,测量更加的方便,使用和维护难度小,制造难度低,造价优惠,使用寿命长,降低成本,使用范围广。
上述实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
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