[实用新型]PECVD镀膜用防绕镀台阶框有效
| 申请号: | 201420788733.1 | 申请日: | 2014-12-12 | 
| 公开(公告)号: | CN204417589U | 公开(公告)日: | 2015-06-24 | 
| 发明(设计)人: | 鲁科;乔琦;陆红艳;黄海涛;陈如龙 | 申请(专利权)人: | 无锡尚德太阳能电力有限公司 | 
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 | 
| 代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 | 
| 地址: | 214028 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | pecvd 镀膜 用防绕镀 台阶 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池生产的配套工装,尤其是一种平板PECVD镀膜用的边框。
背景技术
目前太阳能电池镀膜设备中平板PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition等离子体增强化学气相沉积法)镀膜时,如图1所示,在电池背面镀膜过程中,由于等离子体3在硅片1下方,因此需要采用挂钩4将硅片1吊挂在等离子体源上方,而此种悬挂方式,硅片1与载板边框2之间存在缝隙,导致等离子通过缝隙绕镀到电池片上表面,引起硅片上表面边缘镀上一层薄薄的膜,从而导致生产过程中的一些不良问题。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本实用新型提供一种PECVD镀膜用防绕镀台阶框,能够有效阻止等离子体绕镀至硅片正面边缘,使得太阳能电池生产中硅片镀膜不存在饶镀现象,提高了产品的良率。本实用新型采用的技术方案是:
一种PECVD镀膜用防绕镀台阶框,包括用于承载硅片的载板边框,所述载板边框面向硅片的侧壁上设有台阶,硅片放置于载板边框的台阶上,台阶的内侧延伸部托住硅片,使得载板边框与硅片边缘间没有连通硅片上方和下方的缝隙。
进一步地,载板边框可采用碳纤维材料。
本实用新型的优点在于:
1)作为太阳能电池生产的配套工装之一,其结构设计简单实用,解决了生产中面临的技术问题。
2)使得PECVD镀膜的良品率大大提高。
3)相较于原先的挂钩,不容易对硅片背面造成损坏,更加安全可靠。
附图说明
图1为现有技术的框架示意图。
图2为本实用新型的台阶框俯视示意图。
图3为图2的A-A局部侧面示意图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
如图2和图3所示,本实用新型采用台阶框来取代挂钩,具体结构为:
一种PECVD镀膜用防绕镀台阶框,包括用于承载硅片1的载板边框2,载板边框2面向硅片1的侧壁上设有台阶201,硅片1放置于载板边框2的台阶201上,台阶201的内侧延伸部托住硅片1,使得载板边框2与硅片1边缘间没有连通硅片上方和下方的缝隙。因此在对硅片1背面进行PECVD镀膜时,能够阻止等离子体3绕镀至硅片1上方。硅片1的正面边缘就不会存在绕镀现象。
图2所示是该台阶框的整体俯视结构。载板边框2的材料为碳纤维。近似正方形的开口用于放置硅片1。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





