[实用新型]螺旋式电磁炉线盘架有效
| 申请号: | 201420780930.9 | 申请日: | 2014-12-12 |
| 公开(公告)号: | CN204362341U | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
| 发明(设计)人: | 吴立兴 | 申请(专利权)人: | 无锡南方制动件有限公司 |
| 主分类号: | H05B6/44 | 分类号: | H05B6/44;F24C7/06 |
| 代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 刘述生 |
| 地址: | 214000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 螺旋式 电磁炉 线盘架 | ||
技术领域
本实用新型涉及电磁炉领域,特别是涉及一种螺旋式电磁炉线盘架。
背景技术
电磁炉是生活中常见的加热工具,由于它采用的是电磁感应原理加热,减少了热量传递的中间环节,并且没有燃料残渍和废气污染,受到广泛青睐。
但电磁炉产生的磁场由于不可能100%被锅具吸收,部分磁场从锅具周围向外泄漏,就形成电磁辐射,现有电磁炉使用的线盘,大多采用单层线圈绕制形成,但是这种绕制方式制成的线盘热效率低,损耗大,并且不具备电磁辐射屏蔽功能,容易让使用者受到一定的电磁辐射影响身体健康。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种螺旋式电磁炉线盘架,能够使得电磁炉线盘呈螺旋立体设置,使用时加热更充分,电磁炉散热效果更佳,结构紧凑,设计合理。
为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种螺旋式电磁炉线盘架,包括支架、线圈和磁条柱,所述支架上设有多层螺旋盘体,所述螺旋盘体之间呈封闭结构相互一体连接,所述线圈绕至于所述支架的所述螺旋盘体上,所述支架中央为空腔结构,所述磁条柱安装设置于所述支架中央。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述磁条柱竖直设置于所述支架中央空腔内,所述磁条柱从所述支架顶部延伸至底部设置,所述磁条柱均凸出于所述支架顶部与底部上的所述螺旋盘体设置。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述螺旋盘体从顶部到底部大小依次递减设置。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述支架底部安装设置有风扇机。
在本实用新型一个较佳实施例中,所述支架上至少设置有两层所述螺旋盘体。
本实用新型的有益效果是:本实用新型能够使得电磁炉线盘呈螺旋立体设置,使用时加热更充分,电磁炉散热效果更佳,结构紧凑,设计合理。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1是本实用新型螺旋式电磁炉线盘架一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下: 1、支架; 2、线圈; 3、磁条柱; 4、螺旋盘体。
具体实施方式
下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型实施例包括:
一种螺旋式电磁炉线盘架,包括支架1、线圈2和磁条柱3,所述支架1上设有多层螺旋盘体4,所述螺旋盘体4之间呈封闭结构相互一体连接,所述线圈2绕至于所述支架1的所述螺旋盘体4上,所述支架1中央为空腔结构,所述磁条柱3安装设置于所述支架1中央。
另外,所述磁条柱3竖直设置于所述支架1中央空腔内,所述磁条柱3从所述支架1顶部延伸至底部设置,所述磁条柱3均凸出于所述支架1顶部与底部上的所述螺旋盘体4设置。
另外,所述螺旋盘体4从顶部到底部大小依次递减设置。
另外,所述支架1底部安装设置有风扇机。
另外,所述支架1上至少设置有两层所述螺旋盘体4。
本实用新型的工作原理为在支架1上设有多层螺旋盘体4,支架1上至少设置有两层螺旋盘体4,螺旋盘体4之间相互一体连接,线圈2绕至于支架1的螺旋盘体4上,支架1中央为空腔结构,磁条柱3安装设置于支架1中央,磁条柱3竖直设置于支架1中央空腔内,磁条柱3从支架1顶部延伸至底部设置,磁条柱3均凸出于支架1顶部与底部上的螺旋盘体4设置,螺旋盘体4从顶部到底部大小依次递减设置,支架1底部还安装设置有风扇机,支架1的螺旋结构使得电磁炉线盘呈螺旋立体状,并且螺旋盘体4大小依次均匀递减排布设置,让电磁炉加热更充分同时利于散热,并且螺旋结构的支架1使得辐射被很好的屏蔽在支架1内,减少的辐射伤害。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
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