[实用新型]多源蒸镀装置

说明书

技术领域

    本实用新型涉及一种多源蒸镀装置。

背景技术

    蒸镀法是一种在半导体或太阳能等产业中已经被广泛使用的镀膜技术， 如图1所示，一般常见的蒸镀装置通常包含一个真空腔体91，以及一个安装于所述真空腔体91内且可对一膜料93加热的加热件92。

    在使用时，先将一个欲进行镀膜的工件94放入所述真空腔体91内，接着令所述真空腔体91内抽真空，然后通过所述加热件92将所述膜料93加热达到熔化， 使所述膜料93蒸发产生蒸气原子，并通过蒸气原子沉积凝结在所述工件94之一表面941而生成膜层，便完成镀膜作业。

然而所述蒸镀装置在实际应用上，由于所述膜料93加热蒸发时，其蒸气原子的动作路径有一定的范围，如图1所示地，越靠近所述膜料93则可蒸镀之面积越小， 越远离所述膜料93则可蒸镀之面积越大。换句话说，当所述工件94的尺寸越大时，所述工件94的表面941之面积也越大，因此所述2工件94就必须要相当远离所述膜料93，才能使所述表面941完全蒸镀。不过，为了能让工件94有足够的空间与所述膜料93间隔，在拉长所述工件94与所述膜料93之间的距离的同时，所述真空腔体91的体积也需要随着变大改变。

    如此一来，将会增加所述真空腔体91抽真空的时间， 进而降低工作效率、生产效率与使用方便性，若为了增加抽真空的速度而采用抽气速率较高的泵浦，又不可避免地会增加设备成本。

实用新型内容

    本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种可在近距离处均匀镀膜，并能维持较佳的制造质量、工作效率与生产效率且方便使用的多源蒸镀装置。

    本实用新型所采用的技术方案是：本实用新型多源蒸镀装置可在一个工件的一个加工面上蒸镀膜层，所述加工面包括第一面部、第二面部与第三面部，而所述多源蒸镀装置包含：

    一中空腔体，包括一个可被抽真空且可供所述工件容置的容置空间；

    一蒸镀源机构，包括一个位于所述容置空间内且可被加热而朝所述工件的加工面上蒸镀膜层的膜料单元，所述膜料单元具有一个可在所述第一面部与所述第二面部上蒸镀膜层的第一膜料以及一个可在所述第二面部与所述第三面部上蒸镀膜层的第二膜料；及

一遮挡机构，包括一个可遮挡所述第一膜料与所述第 二膜料的其中一个蒸镀膜层于所述第二面部上的遮挡件。

    进一步的，所述遮挡机构还包括一个与所述中空腔体结合安装而可驱动所述遮挡件绕一轴线旋转的驱动单元。

    进一步的，所述遮挡机构的驱动单元具有一个与所述中空腔体结合安装的驱动件以及一个连接于所述驱动件与所述遮挡件之间的传动件， 所述传动件可被所述驱动件驱动而绕所述轴线转动，进而带动所述遮挡件旋转。

    进一步的，所述蒸镀源机构还包括一个与所述中空腔体结合安装的加热单元，所述加热单元具有数个安装于所述容置空间内而分别用于加热所述第一膜料与所述第二膜料的加热座 。

    进一步的，每一个所述加热座皆具有一个电子枪， 所述电子枪分别可对所述第一膜料与所述第二膜料轰击电子。

    进一步的，所述中空腔体内设置有一个安装于所述容置空间内而用于承载所述工件的承载单元。

    进一步的，所述中空腔体还设置有数个安装于所述容置空间内的离子枪， 所述离子枪分别可对所述工件的加工面轰击离子。

    本实用新型的有益效果是：在所述中空腔体内设置所述第一膜料与所述第二膜料的多源蒸镀结构，使得所述多源蒸镀装置可应用于较大尺寸的工件， 并可在近距离处均匀镀膜，且所述容置空间的容积不需增大， 故不会增长抽真空的时间而能维持较佳的工作效率与生产效率，并方便使用。此外，所述遮挡机构的遮挡件可遮挡所述第一膜料与所述第二膜料的其中一个蒸镀膜层于所述第二面部上，前述崭新的设计使所述加工面的膜层的厚度均匀，因而能维持较佳的制造质量。

附图说明

    图1是现有技术的局部剖视图；

    图2是本实用新型前视剖视示意图；

    图3是本实用新型侧视剖视示意图。

具体实施方式