[实用新型]多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置有效

专利信息
申请号: 201420758958.2 申请日: 2014-12-05
公开(公告)号: CN204251407U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 王冰;高超;刘志立 申请(专利权)人: 内蒙古天一环境技术有限公司
主分类号: C02F1/72 分类号: C02F1/72;C02F1/04
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 刘玲
地址: 010011 内蒙古自治区*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 多层 蒸发 壁式超 临界 氧化 反应 装置
【权利要求书】:

1.一种多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,主要由筒体、上端盖、下端盖、烧嘴及蒸发壁构成,筒体与上端盖、下端盖分别固定安装,在筒体内安装蒸发壁,下端盖制有反应物出口,其特征在于:所述烧嘴为多层烧嘴,该多层烧嘴由一个安装于端盖中心的中心烧嘴及至少一个位于第一烧嘴下部的下层烧嘴构成,中心烧嘴与下层烧嘴之间有环状狭隙,中心烧嘴制有燃料与氧气混合物入口,下层烧嘴制有与所述环状狭隙连通的污水与氧气混合物入口。

2.根据权利要求1所述的多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,其特征在于:所述的下层烧嘴由2-5层下层烧嘴构成,各下层烧嘴之间均有环状狭隙,各下层烧嘴上均制有与环状狭隙连通的污水与氧气混合物入口。

3.根据权利要求1所述的多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,其特征在于:所述的蒸发壁的外壁与筒体的内壁之间形成狭隙,该狭隙由从上至下分隔开的多个狭隙构成,该多个狭隙至少包括一个高温蒸发壁狭隙,一个中温蒸发壁狭隙及一个低温蒸发壁狭隙,在筒体上制有分别与所述高温蒸发壁狭隙,中温蒸发壁狭隙及低温蒸发壁狭隙连通的高温蒸发壁水入口、中温蒸发壁水入口及低温蒸发壁水入口。

4.根据权利要求3所述的多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,其特征在于:所述的筒体上插装有多个与蒸发壁内多个狭隙逐个对应连通的温度计。

5.根据权利要求1所述的多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,其特征在于:所述的下端盖制有大倒角的锥形导流底面,该锥形导流底面的底端制有所述反应物出口。

6.根据权利要求1所述的多层喷烧蒸发壁式超临界水氧化反应装置,其特征在于:所述的筒体与上端盖、下端盖均采用耐高温紧固螺母固装,并在该耐高温紧固螺母上套装有耐高温套筒。

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