[实用新型]一种用于吸收二氧化硒气体的装置

说明书

技术领域

    本实用新型属于稀散元素氧化吸收精炼的技术领域，涉及液体吸收气体的生产设备，具体涉及一种用于吸收二氧化硒气体的装置。

    背景技术

氧气氧化法是目前世界上硒精炼普遍采用的工艺，此工艺分氧化吸收、净化还原、洗涤压滤、干燥筛分等工序，随着技术不断的改进，硒的直收率已达到91%，通过对生产各环节的检测分析，发现在净化还原、洗涤、干燥、筛分等工序，硒的损失很小，只占投入量的0.2%，氧化渣中硒含量高，但经过返炉二次氧化吸收，最终外付渣中硒含量不到投入量的1%，剩下约7%的硒全部损失在氧化炉岗位，分析其主要原因是氧化炉吸收不充分，氧化生成的二氧化硒气体随尾气外排损失非常严重，增加吸收罐的数量和提高吸收罐的液位在一定程度上可提高硒的吸收效果，但由于负压有限不能无限制增加，采用现有的吸收罐装置，二氧化硒气体的吸收率仍然不理想。在硒的精炼过程中，现有氧化炉吸收系统不能够使生成的二氧化硒与水充分反应被吸收，硒的精炼直收率低，不能有质的突破。

发明内容

针对上述已有技术不足，本实用新型提供一种用于吸收二氧化硒气体的装置，该装置能够使生成的二氧化硒与水充分反应被吸收，提高硒的精炼直收率。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种用于吸收二氧化硒气体的装置，其特征在于所述装置结构包括：吸收罐，所述吸收罐上端设有带有抽气控制阀门的抽气管、带有进气控制阀门的进气管、排空阀和带有进液控制阀门的进液管，所述吸收罐的底部设有带有排料控制阀门的排料管；分隔板，所述分隔板设置在所述吸收罐的内部、位于抽气管与进气管之间，所述分隔板的上端与所述吸收罐上端的内壁固定连接，所述分隔板的下部设有多个分离孔。

一种用于吸收二氧化硒气体的装置，其特征在于所述吸收罐的下部呈锥形。

一种用于吸收二氧化硒气体的装置，其特征在于所述分隔板的下端与吸收罐的底部距离10cm。

一种用于吸收二氧化硒气体的装置，其特征在于所述分离孔之间的间距为1cm。

一种用于吸收二氧化硒气体的装置，其特征在于所述分离孔的直径为1cm。

本实用新型的有益技术效果，本实用新型提供了一种用于吸收二氧化硒气体的装置，设置在抽气管与进气管之间的分隔板可阻碍进入吸收罐的气体直接从液面上空被抽气管抽走，让气体进入液体内部，绕过分隔板的下端，在液体中穿行一段路径后，充分与液体接触反应后被抽气管抽走；分隔板下端存在较多间隔1cm、直径1cm的分离孔，可将绕过分隔板的大体积较大的气泡在通过分离孔时，进行体积分解成体积较小的气泡，有效地增加气体与液体的接触面积，大幅度提高气体与液体的反应效率；分隔板的下端与底端有10cm的距离，同时吸收罐的下部呈锥形，并带有排料阀，便于气体中带入的固体物料或反应生成的固体物料进行定期清理和罐体的清洗；本实用新型可确保二氧化硒与水充分发生化学反应生成亚硒酸，防止二氧化硒排放造成环境污染的问题，吸收率可提高到99%，能大幅度提高硒的直收率，创造较高的经济效益。

附图说明  

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，一种用于吸收二氧化硒气体的装置，结构包括：吸收罐1，分隔板2；吸收罐采用不锈钢制成，优选吸收罐的上部为圆柱形、下部呈锥形，在吸收罐的上端设有带有抽气控制阀门的抽气管3、带有进气控制阀门的进气管4、排空阀5和带有进液控制阀门6的进液管7，在吸收罐的底部设有带有排料控制阀门8的排料管9，便于反应生成或气体中带入的固体物料的清理；分隔板2设置在吸收罐1的内部、位于抽气管3与进气管4之间，分隔板的上端与吸收罐上端的内壁固定连接，分隔板的下端与吸收罐的底部距离10cm，分隔板的下部设有多个分离孔10，优选分离孔之间的间距为1cm，分离孔的直径为1cm。

操作时，首先关闭排料控制阀门8、抽气管3上的控制阀门，打开排空阀5、进液控制阀门6，加入吸收液，液位根据负压及气体被吸收的容易程度确定，但至少要高于吸收罐1中分隔板上的分离孔10cm以上，然后关闭排空阀5、进液控制阀门6，打开抽气控制阀门，启动负压设施，被吸收的气体通过进气管进入吸收罐1，由于吸收罐的密封性及系统的负压作用，被吸收的气体绕过分隔板的下端，在液体中穿行一段路径后被抽气管吸走。当吸收液中浓度达到要求后，打开排料控制阀门8、排空阀5，关闭抽气控制阀门，将吸收液及里面所含的固体物料由排料管9放出，然后关闭排料控制阀门8、排空阀5，打开进液管控制阀门6，进入下一个吸收循环。分隔板下端较多间隔1cm、直径1cm的分离孔10，其作用将绕过分隔板的体积较大气泡在通过分离孔时进行体积分解成为无数体积较小气泡，有效增加气体与液体的接触面积，大幅度提高气体与液体的反应效率，分隔板下端与底端有10cm的距离，吸收罐下部呈锥形，并带有排料阀，便于反应生成或气体中带入的固体物料的清理。