[实用新型]双波长激光退火装置有效
| 申请号: | 201420748569.1 | 申请日: | 2014-12-03 |
| 公开(公告)号: | CN204189772U | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
| 发明(设计)人: | 赵裕兴;韩伟 | 申请(专利权)人: | 苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;B23K26/067 |
| 代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 王玉国 |
| 地址: | 215021 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 波长 激光 退火 装置 | ||
1.双波长激光退火装置,其特征在于:包含绿光激光器和红外激光器,绿光激光器的输出光路上依次布置扩束模块、绿光条形光斑整形模块和绿光45度反光镜,红外激光器的输出光路上依次布置红外条形光斑整形模块和红外45度反光镜,绿光45度反光镜和红外45度反光镜的输出光路设置有合束投影聚焦镜,合束投影聚焦镜的输出光路设有可变光阑,可变光阑的输出端正对于加工平台。
2.根据权利要求1所述的双波长激光退火装置,其特征在于:所述绿光激光器是绿光波段为515~532nm的调Q脉冲式绿光激光器。
3.根据权利要求1所述的双波长激光退火装置,其特征在于:所述红外激光器是波段为808~1070nm的半导体或光纤红外激光器。
4.根据权利要求1所述的双波长激光退火装置,其特征在于:所述扩束模块由共焦的凹透镜和凸透镜组成,两个透镜呈虚共焦结构。
5.根据权利要求1所述的双波长激光退火装置,其特征在于:所述合束投影聚焦镜旁设有用于测量激光光束到加工件表面高度的自动测高仪。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司,未经苏州德龙激光股份有限公司;江阴德力激光设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420748569.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于PVD溅射的载板
- 下一篇:一种提高与行波管慢波匹配的吸收器组件结构
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





