[实用新型]一种数控加工中心自动排水装置有效
申请号: | 201420726771.4 | 申请日: | 2014-11-28 |
公开(公告)号: | CN204381967U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 牛军 | 申请(专利权)人: | 牛军;张雪淞 |
主分类号: | B23Q11/10 | 分类号: | B23Q11/10 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 250103 山东省济南市历*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 数控加工中心 自动 排水 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种加工中心辅助装置,尤其涉及一种数控加工中心自动排水装置。
背景技术
数控加工中心是一种功能较全的数控加工机床。它把铣削、镗削、钻削、攻螺纹和切削螺纹等功能集中在一台设备上,使其具有多种工艺手段。加工中心设置有刀库,刀库中存放着不同数量的各种刀具或检具,在加工过程中由程序自动选用和更换。这是它与数控铣床、数控镗床的主要区别。特别是对于必需采用工装和专机设备来保证产品质量和效率的工件。这会为新产品的研制和改型换代节省大量的时间和费用,从而使企业具有较强的竞争能力。然而,加工中心在加工的时候,需要对道具和工件进行不断的冷却,现有技术对于加工中心的冷却水都是不断循环利用的,但切屑与冷却液混合后冷却液中含有大量的切屑,因此容易堵塞水泵,容易产生故障,因此,存在改进空间。
实用新型内容
本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种数控加工中心自动排水装置。
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:
本实用新型包括整流降压电路、自动控制电路、手动控制电路、水位检测电路、水泵控制电路和电源电路,所述电源电路分别与所述水泵控制电路和整流降压电路连接,所述整流降压电路分别与所述手动控制电路和所述自动控制电路连接,所述水位检测电路与所述自动控制电路连接,所述手动控制电路和所述自动控制电路均与所述水泵控制电路连接。
具体地,所述整流降压电路由变压器、整流器和第一电容组成;所述电源电路连接三相交流电源,并由三相开关控制;所述手动控制电路由二选一开关、常闭按钮、常开按钮和接触器组成;所述自动控制电路由于第一电阻至第三电阻、第二电容、第三电容、二极管、继电器和三极管组成;所述水位检测电路包括三个水位检测点。
本实用新型的有益效果在于:
本实用新型是一种数控加工中心自动排水装置,与现有技术相比,本实用新型通过电子元器件检测加工中心中的水箱水位,水在储存的过程中使用含有的切屑沉淀,在水满时候开始循环水,这样能够避免浑浊的冷却水进行循环,提高水泵的使用寿命,减少维修几率,具有推广应用的价值。
附图说明
图1是本实用新型的电路结构原理图。
图中:1-整流降压电路、2-自动控制电路、3-手动控制电路、4-水位检测电路、5-水泵控制电路、6-电源电路。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
如图1所示:本实用新型包括整流降压电路1、自动控制电路2、手动控制电路3、水位检测电路4、水泵控制电路5和电源电路6,电源电路6分别与水泵控制电路5和整流降压电路1连接,整流降压电路1分别与手动控制电路3和自动控制电路2连接,水位检测电路4与自动控制电路2连接,手动控制电路3和自动控制电路2均与水泵控制电路5连接。
具体地,整流降压电路1由变压器T、整流器DR和第一电容C1组成;电源电路6连接三相交流电源,并由三相开关Q控制;手动控制电路3由二选一开关ZK、常闭按钮SB、常开按钮SA和接触器KM组成;自动控制电路2由于第一电阻R1至第三电阻R3、第二电容C2、第三电容C3、二极管VD、继电器K和三极管VT组成;水位检测电路4包括三个水位检测点。
本实用新型的工作原理如下:
当机床内水位达到C点时,三极管VT导通,继电器K吸合,使接触器KM得电,水泵控制电路5中的接触器第二常开触点KM2闭合,使电机M启动,水位降到B点以下时,三极管VT截止,继电器K释放,接触器KM失电,水泵M停止,第三电容C3起延时作用,可避免由于水位波动引起的接触器频繁动作烧坏触点的情况,切块二选一开关ZK可选择由手动控制还是自动控制执行,控制方便。
本实用新型的元器件参数选择如下:
第一电阻R1为100Ω、第二电阻R2为400Ω、第三电阻R3为500Ω、第一电容C1为300uf、第二电容C2为470uf、第三电容C3为100uf、三极管为PNP型三极管、二极管VD为型号70HF80的二极管、整流器DR为型号IN4007的整流器、变压器为12V、接触器KM为交流接触器、继电器K为直流继电器。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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