[实用新型]一种真空镀膜舱的两级抽真空结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀膜舱的两级抽真空结构。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。而真空离子蒸发镀膜在镜片的镀膜中应用较广，镜片在镀膜前，需固定到镀膜腔内顶部的旋转承载架上，然后再对镀膜腔进行抽真空。现有镀膜舱的抽真空系统是只在镀膜舱的顶部连接一个抽真空管，抽真空管再连接一套抽真空装置。由于镜片镀膜对镀膜舱内洁净度要求较高，若采用现有技术进行对镀膜舱进行抽真空，镀膜舱内沉积在底部的灰尘等其他杂质会随气流向上运动，杂质会附着在待镀膜的镜片上，因此，对镜片镀膜的质量影响较大。

发明内容

为了解决现有技术中的不足，本实用新型的目的在于提供一种结构简单，能够保证镀膜洁净度和提高镀膜质量的真空镀膜舱的两级抽真空结构。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种真空镀膜舱的两级抽真空结构，包括真空镀膜舱本体，所述真空镀膜舱本体的顶部设有第一抽真空管，所述第一抽真空管连接有第一抽真空装置，所述真空镀膜舱本体的侧壁下部设有第二抽真空管，所述第二抽真空管连接有第二抽真空装置。

所述第一抽真空装置包括依序连接的扩散泵、罗茨泵和机械泵。

所述第二抽真空装置为罗茨泵。

所述第一抽真空管的管径大于第二抽真空管的管径。

本实用新型采用以上技术方案，先通过第二抽真空装置对真空镀膜舱本体进行第一级抽真空，目的是将真空镀膜舱本体内的灰尘等杂质抽走，然后再通过第二抽真空装置将真空镀膜舱本体内抽真空至所需的真空度。上述过程，能够有效地避免在抽真空时，灰尘等杂质对待镀膜物品的影响，提高镀膜的质量。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细说明：

图1为本实用新型一种真空镀膜舱的两级抽真空结构整体结构框图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型一种真空镀膜舱的两级抽真空结构，包括真空镀膜舱本体1，所述真空镀膜舱本体1的顶部设有第一抽真空管2，所述第一抽真空管2连接有第一抽真空装置3，所述真空镀膜舱本体1的侧壁下部设有第二抽真空管4，所述第二抽真空管4连接有第二抽真空装置5。

所述第一抽真空装置3包括依序连接的扩散泵31、罗茨泵32和机械泵33。

所述第二抽真空装置5为罗茨泵。

所述第一抽真空管2的管径大于第二抽真空管4的管径。

本实用新型采用以上技术方案，先通过第二抽真空装置5对真空镀膜舱本体1进行第一级抽真空，目的是将真空镀膜舱本体1内的灰尘等杂质抽走，然后再通过第二抽真空装置5将真空镀膜舱本体1内进行抽真空，机械泵33对空气进行初抽，达到一定真空度后罗茨泵32工作，当真空室内的达到一定的真空度后扩散泵31才打开，由扩散泵31来进一步提高至镀膜所需的真空度。上述过程，能够有效地避免在抽真空时，灰尘等杂质对待镀膜物品的影响，提高镀膜的质量。