[实用新型]研磨平台及研磨机有效
申请号: | 201420697960.3 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN204248635U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 李峰;王洪亚 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B37/04;B24B55/02 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 平台 研磨机 | ||
技术领域
本实用新型涉及研磨领域,特别是涉及一种研磨平台及使用该研磨平台的研磨机。
背景技术
玻璃和光学膜片等材料在使用前通常需要通过研磨平台来进行研磨,研磨平台包括用来承载这些待研磨物体的承载台。进行研磨时,这些待研磨物体设置在承载台上,同时需要将该承载台与一个真空系统相连,保证待研磨物体能够吸附在承载台上,防止研磨时发生位置偏移。由于研磨时会产生大量的热量,热量越高越容易影响玻璃或光学膜片等材料的性能,因此需要喷水来降低由于研磨导致升高的温度。然而,传统的研磨平台在研磨过程中喷水之后,带有研磨屑的污水极容易顺着玻璃或光学膜片等待研磨物体的底部流到承载台上,容易造成玻璃或光学膜片等待研磨物体的二次污染。此外,水容易进入到真空孔中影响真空吸附效果。这些情况极容易导致传统的研磨平台寿命较低。
实用新型内容
基于此,有必要针对传统的研磨平台寿命较低的问题,提供一种寿命较高的研磨平台。
一种研磨平台,包括承载台,所述研磨平台还包括位于所述承载台外围的多个喷液机构,所述喷液机构的一端与所述承载台的顶面共同形成一个支撑面。
在其中一个实施例中,所述喷液机构与所述承载台的顶面共同形成支撑面的一端呈扁平状。
在其中一个实施例中,所述研磨平台还包括位于所述承载台的一侧的真空系统,所述真空系统与所述承载台相连。
在其中一个实施例中,所述喷液机构包括喷液管以及连接在所述喷液管两端的支撑件和管道转接件,所述支撑件与所述喷液管相连通,且与所述承载台的顶面共同形成一个支撑面。
在其中一个实施例中,所述喷液管为不锈钢管道,所述研磨平台还包括套装在所述喷液管外侧的保护套。
在其中一个实施例中,所述喷液机构为一体成型的喷液管,所述喷液管包括第一端部和第二端部,所述第一端部呈扁平状,且与所述承载台的顶面共同形成一个支撑面。
在其中一个实施例中,所述喷液管为不锈钢管道,所述研磨平台还包括套装在所述喷液管的第一端部外侧的保护套。
在其中一个实施例中,所述研磨平台还包括与所述喷液管的第二端部相连通的液气通道,所述第二端部与所述液气通道转动连接或者螺纹连接。
在其中一个实施例中,所述喷液机构的个数为多个,所述多个喷液机构均匀分布在所述承载台的周围。
此外,还提供一种研磨机,包括上述的研磨平台。
上述研磨平台包括承载台和位于承载台外围的喷液机构,由于喷液机构的一端与承载台的顶面共同形成一个支撑面,该支撑面用来支撑待研磨物体。在研磨过程中,喷液机构喷出混合水气,可防止研磨屑进入到待研磨物体的底面,减少了研磨污水流到承载台上的几率,防止造成污染。与传统的承载台相比,本申请的承载台的设计增加了其使用寿命,即寿命较高。
附图说明
图1为本实用新型实施例中研磨平台的示意图;
图2为本实用新型实施例中支撑装置的示意图。
图中标号表示含义如下:
研磨平台100,真空系统110,承载台120,喷液机构130,喷液管131,支撑件132,管道转接件133,液气通道140,保护套150,玻璃200。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
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