[实用新型]流水线式滚压清洁机

说明书

技术领域

本实用新型涉及机械制造领域，具体是流水线式滚压清洁机。

背景技术

电子技术是十九世纪末、二十世纪初开始发展起来的新兴技术，二十世纪发展最迅速，应用最广泛，成为近代科学技术发展的一个重要标志。

第一代电子产品以电子管为核心。四十年代末世界上诞生了第一只半导体三极管，它以小巧、轻便、省电、寿命长等特点，很快地被各国应用起来，在很大范围内取代了电子管。五十年代末期，世界上出现了第一块集成电路，它把许多晶体管等电子元件集成在一块硅芯片上，使电子产品向更小型化发展。集成电路从小规模集成电路迅速发展到大规模集成电路和超大规模集成电路，从而使电子产品向着高效能低消耗、高精度、高稳定、智能化的方向发展。

随着社会的发展，人力成本的逐升，自动化行业的兴起，自动化设备的广泛使用，已是无法取代的，而自动化设备这一重要的工具的大力推广，可以给各行业节省大量的人力和物力。提高产品的品质，增加产值效益。

流水线式滚压清洁机主要是解决产品在生产过程中会携带灰尘脏污问题；由于电子产业产品逐渐向小巧美观发展，对外观洁净要求较高，而且对于微小尺寸结构的产品来说，其产品表面的洁净度对下一步生产的合格率影响极大，特别是某些液晶产品，产品表面的洁净度是最主要的指标之一。目前还没有一种结构简单、使用方便，可以适应大型流水线生产的专门用于清洁各种产品表面的粘黏物及灰尘的流水线式滚压清洁机。

实用新型内容

本实用新型正是针对以上技术问题，提供一种结构简单、使用方便，可以适应大型流水线生产的专门用于清洁各种产品表面的粘黏物及灰尘的流水线式滚压清洁机。

本实用新型通过以下技术方案来实现：

流水线式滚压清洁机，包括清洁机构、来料载具、胶带卷料供料机构、来料输送带、顶升料盘机构，其特征在于清洁机构通过自身的X轴、Z轴实现上下和前后移动，来料载具设置在两条来料输送带之间，并随着来料输送带移动而移动，来料输送带设置在清洁机构的两条X轴之间，来料输送带下方设置有顶升料盘机构，清洁机构下方设置有胶带送料供料机构。顶升料盘机构通过顶升气缸驱动。胶带送料供料机构设置有自动收卷废料部分。清洁机构采用滚压清洁轴实现对来料的清洁。

使用时，来料载具从外部通过来料输送带流入设备内，顶升料盘机构顶起来料载具，来料载具脱离来料输送带，清洁机构移动过来，清洁机构的Z轴下降，从而使清洁机构的滚轮接触产品，清洁机构的X轴作往复动作，使灰尘沾到清洁机构的滚轮上。产品清洁完成后，Z轴上升，顶升料盘机构下降，来料载具随来料输送带流出设备。当滚轮不再有清洁能力后，可以采用如下方式对滚轮进行清洁，首先清洁机构的X轴使清洁机构的滚轮移动到胶带位置，然后污渍机构的Z轴使清洁机构的滚轮下降，滚轮滚到胶带送料供料机构的胶带上，来回移动，清洗滚轮。

附图说明

附图中，图1是本实用新型结构示意图，图2是本实用新型胶带送料供料机构结构示意图，其中：

1—清洁机构，2—来料载具，3—胶带卷料供料机构，4—来料输送带，5—顶升料盘机构。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

流水线式滚压清洁机，包括清洁机构1、来料载具2、胶带卷料供料机构3、来料输送带4、顶升料盘机构5，其特征在于清洁机构1通过自身的X轴、Z轴实现上下和前后移动，来料载具2设置在两条来料输送带4之间，并随着来料输送带4移动而移动，来料输送带4设置在清洁机构1的两条X轴之间，来料输送带4下方设置有顶升料盘机构5，清洁机构1下方设置有胶带送料供料机构3。顶升料盘机构5通过顶升气缸驱动。胶带送料供料机构3设置有自动收卷废料部分。清洁机构1采用滚压清洁轴实现对来料的清洁。

使用时，来料载具2从外部通过来料输送带4流入设备内，顶升料盘机构5顶起来料载具2，来料载具2脱离来料输送带4，清洁机构1移动过来，清洁机构1的Z轴下降，从而使清洁机构1的滚轮接触产品，清洁机构1的X轴作往复动作，使灰尘沾到清洁机构1的滚轮上。产品清洁完成后，Z轴上升，顶升料盘机构5下降，来料载具2随来料输送带4流出设备。当滚轮不再有清洁能力后，可以采用如下方式对滚轮进行清洁，首先清洁机构1的X轴使清洁机构1的滚轮移动到胶带位置，然后污渍机构的Z轴使清洁机构1的滚轮下降，滚轮滚到胶带送料供料机构3的胶带上，来回移动，清洗滚轮。胶带上沾了过多的灰尘后，胶带前进，把使用后的胶带收起。