[实用新型]方形烤盘和具有其的煎烤装置有效
申请号: | 201420649551.6 | 申请日: | 2014-10-31 |
公开(公告)号: | CN204133281U | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 邢凤雷;王志刚;杜明辉;尹志楠;万程 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司;美的集团股份有限公司 |
主分类号: | A47J37/06 | 分类号: | A47J37/06;A47J37/10 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 贾玉姣 |
地址: | 528311 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 方形 具有 装置 | ||
1.一种方形烤盘,其特征在于,所述方形烤盘的内表面上具有多个凸出部,所述凸出部的高度H1满足:0.5mm≤H1≤1.5mm,所述多个凸出部之间限定出蒸汽通道。
2.根据权利要求2所述的方形烤盘,其特征在于,所述多个凸出部呈多排多列排列。
3.根据权利要求2所述的方形烤盘,其特征在于,所述多个凸出部呈环形阵列排列。
4.根据权利要求1所述的方形烤盘,其特征在于,所述凸出部形成为棱柱或圆柱形状。
5.根据权利要求1所述的方形烤盘,其特征在于,所述凸出部形成为球形。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方形烤盘,其特征在于,所述凸出部之间的距离D1满足:2mm≤D1≤5mm。
7.一种煎烤装置,其特征在于,包括:
下烤盘;
上烤盘,所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘,且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室,其中所述上烤盘和所述下烤盘的至少一个为根据权利要求1-6中任一项所述的方形烤盘。
8.根据权利要求7所述的方形烤盘,其特征在于,所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10-15mm。
9.根据权利要求7所述的方形烤盘,其特征在于,所述上烤盘的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈,所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述锁水圈的下端与所述下烤盘的内表面之间的距离小于等于7mm。
10.根据权利要求7所述的方形烤盘,其特征在于,所述上烤盘的宽度S1和长度S2满足:0.6≤S1/S2≤0.8。
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