[实用新型]一种电弧制备装置的框架结构有效

专利信息
申请号: 201420648397.0 申请日: 2014-11-04
公开(公告)号: CN204193927U 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 朱常锋;梁业明;李新德 申请(专利权)人: 厦门福纳新材料科技有限公司
主分类号: B01J19/08 分类号: B01J19/08
代理公司: 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218 代理人: 何家富
地址: 361000 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 电弧 制备 装置 框架结构
【权利要求书】:

1.一种电弧制备装置的框架结构,其特征在于,包括:

一支撑骨架(20),是由多个支撑体围绕衔接成封闭线圈;

多个支撑底柱(10),分别固定设置于该支撑骨架(20)下端,分布于该封闭线圈的多个间隔位置处;

一个外框架(30),连接设置于该支撑骨架(20)的上端,分别包括多个直立设置的纵梁(301)和多个杆体构成的一顶面框体(302),从而该外框架(30)与该支撑骨架(20)构成一个中空体框架体;

多个内框架(40),分别连接设置于该外框架(30)的侧面,分别是设于该外框架(30)前侧面的前端内框架(401)、设于该外框架(30)左侧面的左端内框架(402)、设于该外框架(30)右侧面的右端内框架(403)和设于该外框架(30)后侧面的后端内框架(404),其中每个内框架(40)至少是由2个支撑杆体连接设置而构成;

一真空电弧炉支撑板(50),固定设置于该前端内框架(401)的中间位置,该真空电弧炉支撑板(50)为一面板,该面板中间开设有一固定孔(501)及具有左右两侧的支撑部(502);

以及两个电弧电源固定部(60),分别设置于该前端内框架(401)的两侧位置。

2.根据权利要求1所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该支撑底柱(10)是高度可调节支撑底柱。

3.根据权利要求1所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该电弧电源固定部(60)分别是由设置于上、下面的锈钢支撑板构成。

4.根据权利要求1或2或3所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该外框架(30)的侧面分别用于安装检修门,该外框架(30)的内部分别用于布置走线槽。

5.根据权利要求1或2或3所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该后端内框架(404)的上端位置(404A)用于集中安装水路、气路阀门。

6.根据权利要求1或2或3所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该真空电弧炉支撑板(50)的固定孔(501)用于固定安装真空电弧炉。

7.根据权利要求1或2或3所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该电弧电源固定部(60)用于固定设置电弧电源。

8.根据权利要求1或2或3所述的电弧制备装置的框架结构,其特征在于:该真空电弧炉支撑板(50)两侧的支撑部(502)用于固定设置电气控制柜。

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