[实用新型]煎烤装置

权利要求书

1.一种煎烤装置，其特征在于，包括：

下烤盘；

上烤盘，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和/或下烤盘上具有彼此平行且间隔开的多条凸筋，所述多条凸筋之间限定出导油通道，所述凸筋大体平行于所述上烤盘相对于所述下烤盘的枢转轴线，每条所述凸筋的至少一端与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁间隔开以形成沿部分周向延伸的导油槽，所述导油槽与所述导油通道连通。

2.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋沿直线或波浪形延伸。

3.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋的两端均与位于其两侧的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁间隔开。

4.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述凸筋设在所述上烤盘上，所述上烤盘的邻近所述下烤盘的一端具有倒油槽，所述倒油槽与所述导油槽连通。

5.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述下烤盘包括：

煎烤区；

集油区，所述集油区环绕所述煎烤区设置，所述集油区的厚度小于所述煎烤区的厚度。

6.根据权利要求5所述的煎烤装置，其特征在于，所述集油区的厚度H与所述煎烤区的厚度h的关系满足：H-h≥1mm。

7.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述集油区的厚度H为2-4mm。

8.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述煎烤区的厚度h为1-2mm。