[实用新型]一种大体积间歇式半自动气体发生装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及原子荧光光谱法分析测试领域，尤其涉及一种用于气体发生-原子荧光光谱仪的大体积间歇式半自动气体发生装置。

背景技术

气体发生-原子荧光光谱法是一种联用分析技术，它是上世纪八十年代以来在我国发展较快的痕量分析技术，目前地质、冶金、卫生、环保等部门和行业较常用的一种仪器分析方法。气体发生-原子荧光光谱法集中了氢化物/汞发生技术和结构简单的无色散原子荧光光谱仪的特点，利用气体发生技术使得待测元素与绝大多数基体元素分离，所生成的氢化物可以在氢火焰中高效原子化，氢火焰本身具有很高的荧光效率和较低的背景，所有形成氢化物的元素和汞的荧光波长位于紫外区，采用日盲光电倍器实现无色散原子荧光光谱法的高灵敏度测量。以上特点使得气体发生-原子荧光光谱法测定As、Sb、Bi、Se、Te、Pb、Sn、Ge和Hg等元素具有极低的检出限，是测定各类样品中痕量和超痕量此类元素的最佳方法，具有灵敏度高、测量范围宽、分析速度快等优点。

流动注射氢化物发生法是当前原子荧光光谱分析领域普遍采用的方法。根据反应原理的不同分为连续流动注射法和断续流动注射法两种。

连续流动注射法是将样品和还原剂溶液以一定的速度在聚四氟乙烯管道中流动并混合，然后通过气液分离将生成的气体产物导入原子化器，同时排出废液，此法可获得连续信号，方法装置简单易实现自动化；

断续流动注射法利用计算机控制蠕动泵定时定量采样，优点是定量采样节省试剂量。使用中发现主要缺点是样品和还原剂消耗量巨大，清洗时间长。两种气体发生技术都是泵管式反应方式，主要缺点是反应时干扰大，记忆效应严重，泵管易老化，管路易漏液，测定的长期稳定性差等，会影响仪器的性能指标。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型在于提供一种可避免样品溶液注射到内壁、实现排液自动化，能够自动清洗发生器内壁以及克服记忆效应的用于气体发生-原子荧光光谱仪的大体积间歇式半自动气体发生装置。

为了解决上述问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型的一种大体积间歇式半自动气体发生装置，包括反应腔、位于反应腔上端的腔盖以及位于反应腔下端的排液机构；腔盖中心位置设有加注口且加注口配置有柱塞，腔盖上还设置有还原剂嘴、混合气出嘴和清洗水嘴，且腔盖上开设有8个等分圆周的供清洗水嘴穿入的斜孔，且斜孔的直径为0.6-0.8cm、倾斜角α＝16°-18°、β＝35°-40°；反应腔底部设置有氩气气嘴；排液机构包括通过连接件连接在反应腔下端的排液腔、连接在排液腔下端口处的废液腔体和阀芯，废液腔体下部开设有排液嘴，连接件上开设有连通反应腔和排液腔的通孔，阀芯包括置于排液腔内的柱芯、固定与柱芯上端并向通孔延伸的的圆锥型密封体和柱芯下端固定的永磁铁，排液腔外侧依次套设有铁芯、线圈和外保护套，圆锥型密封体的底面直径大于通孔的直径以实现线圈通电或断电时圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合。

进一步，永磁铁位于废液腔体内且永磁铁的直径大于排液腔直径。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型的大体积间歇式半自动气体发生装置具有以下优点：(1)采用间歇式反应方式，液相干扰小(2)可采用0.5mL至5.0mL进样体积，实现大体积进样；(3)加注口置于腔盖中心位置以避免加注样品溶液时注射在内壁上；(4)清洗水嘴可连通自动供水装置以使清洗水通过8个斜孔斜射向反应腔内壁且形成螺旋线的水流带以充分清洗内壁，从而实现完成反应后自动清洗反应腔内壁以克服记忆效应；(5)反应腔底部的氩气嘴可通入使氩气对反应物进行搅拌以加速反应；(6)排液机构采用线圈通电或断电时驱动永磁铁对铁芯的排斥或吸引以带动圆锥型密封体与通孔的远离或密封配合，从而实现了排液自动化。

附图说明

图1是本实用新型的大体积间歇式半自动气体发生装置的结构示意图；

图2是本实用新型的阀芯的结构示意图；

图3是本实用新型的的斜孔(倾斜角β)示意图；

图4是本实用新型的的斜孔(倾斜角α)示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。