[实用新型]一种亚波长等离激元微腔光耦合结构有效
申请号: | 201420597469.3 | 申请日: | 2014-10-16 |
公开(公告)号: | CN204332979U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 李倩;李志锋;陆卫;陈效双;李宁;陈平平;李天信;王文娟;甄红楼;王少伟;景友亮;廖开升 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/0216 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波长 离激元微腔光 耦合 结构 | ||
1.一种亚波长等离激元微腔光耦合结构,结构为以入射光经过先后为序依次是上层金属条块形成的金属光栅层(1),光电转换激活层(2)和下层金属反射层(3),其特征在于:
所述的上层金属条块形成的金属光栅层(1),在一维周期性重复的情况下,为周期为p、线宽为s、厚度为h1的一维周期排列的金属线条光栅;在二维周期性重复的情况下,为两个方向上周期均为p、线宽均为s、厚度为h1的二维周期排列的金属方块形光栅,该层材质为高导电性的金或者银;上层金属条块形成的金属光栅层(1)的周期p的数值为探测波长的十分之一到十分之三十,线宽s的数值为探测波长的十分之一到十分之十之间,厚度h1的值不小于以微米为单位的探测波长的平方根的0.0096倍;
所述的光电转换激活层(2)为单层或多层半导体光电转换功能材料,其厚度h2的数值不大于探测波长的三分之一;
所述的下层金属反射层(3)是指厚度为h3的一层完整的金属层,h3的值不小于以微米为单位的探测波长的平方根的0.0048倍。
2.根据权利要求1所述的一种亚波长等离激元微腔光耦合结构,其特征在于:在所述的上层金属条块形成的金属光栅层(1)与光电转换激活层(2)之间附加有改善上层金属条块形成的金属光栅层(1)的黏附性的黏性钛金属层,其厚度为5~30纳米。
3.根据权利要求1所述的一种亚波长等离激元微腔光耦合结构,其特征在于:在所述的光电转换激活层(2)和下层金属反射层(3)之间附加有改善下层金属反射层(3)黏附性的黏性钛金属层,其厚度为5~30纳米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的