[实用新型]一种真空镀膜机

权利要求书

1.一种真空镀膜机，包含蒸镀室和置于其内底部的蒸发室，其特征在于：所述蒸镀室包含样品架调节转盘、掩膜板调节转盘；所述样品架调节转盘包含多个交替工作的样品台，所述掩膜板调节转盘包含多个与样品台数量相同且一一对应的掩膜板；所述样品台置于所对应的掩膜板上，所述蒸发室置于样品台和掩膜板的正下方。

2.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于：所述蒸镀室还包含转盘调节螺杆、转盘支撑弹簧、大挡板、小挡板、挡板控制旋钮、蒸镀室观察窗、样品更换窗、气氛连通窗和样品过渡舱；所述转盘支撑弹簧置于掩膜板调节转盘与蒸镀室上下壁之间，用于支撑掩膜板调节转盘在弹力的作用下始终紧贴样品调节转盘，所述掩膜板调节转盘与蒸镀室通过转盘调节螺杆连接，所述转盘调节螺杆用于调节掩膜板调节转盘旋转；所述大挡板置于蒸发室上方，所述小挡板置于掩膜板的下方，所述大挡板和小挡板通过转盘调节螺杆控制。

3.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于：所述掩膜板调节转盘与样品架调节转盘之间设有四个定位卡槽，用于固定样品台及与其对应的掩膜板。

4.根据权利要求1所述真空镀膜机，其特征在于：所述样品架调节转盘与掩膜板调节转盘机械结构相同且镜面相对。

5.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于：所述转盘调节螺杆和掩膜板调节转盘为固定连接。

6.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于：所述转盘调节螺杆顶部下方设有小挡块，用于防止样品台与掩膜板接触太近导致损坏。

7.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于：所述转盘调节螺杆下方为L型支撑架。

8.根据权利要求2所述真空镀膜机，其特征在于：所述过渡舱包含压力显示表、过度舱体和压力控制按钮。