[实用新型]等离子蚀刻机上料架

权利要求书

1.等离子蚀刻机上料架，其特征在于：包括有底架(1)、设置在底架(1)上的至少一组上料架支撑架(2)，每组上料架支撑架(2)包括有横向设置的上支撑架(21)、平行位于上支撑架(21)下方的下支撑架(22)、两个竖向设置的侧架(23)，两个侧架(23)的底部分别固定在底架(1)的两侧上，上支撑架(21)的两端分别与两个侧架(23)的顶部固定连接，每个侧架(23)上开设有多个沿竖向均匀分布的调节卡槽(24)，下支撑架(22)的两端分别通过销钉(25)卡合在两个侧架(23)相应的调节卡槽(24)中，下支撑架(22)的上端沿横向开设有下支撑卡槽(26)使下支撑架(22)形成U型结构，上支撑架(21)的下端沿横向开设有上支撑卡槽(27)使上支撑架(21)形成倒U型结构，上支撑卡槽(27)的槽深大于侧架(23)上相邻两个调节卡槽(24)的距离。

2.根据权利要求1所述的等离子蚀刻机上料架，其特征在于：所述下支撑架(22)靠近其中一端的位置插设有卡销(28)，卡销(28)沿前后方向穿过下支撑卡槽(26)。

3.根据权利要求1所述的等离子蚀刻机上料架，其特征在于：每组上料架支撑架(2)的其中一个侧架(23)上的调节卡槽(24)向上倾斜设置。

4.根据权利要求1所述的等离子蚀刻机上料架，其特征在于：所述底架(1)底部设有滚轮(3)。

5.根据权利要求1～4任意一项所述的等离子蚀刻机上料架，其特征在于：所述上料架支撑架(2)有多组，多组上料架支撑架(2)沿前后方向并排设置。