[实用新型]一种选择性电镀条镀模有效

专利信息
申请号: 201420587620.5 申请日: 2014-10-11
公开(公告)号: CN204138798U 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 周爱和 申请(专利权)人: 昆山一鼎电镀设备有限公司
主分类号: C25D5/02 分类号: C25D5/02;C25D5/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省苏州市昆山市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 选择性 电镀 条镀模
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种电镀镀模技术设备领域,特别涉及一种选择性电镀条镀模。

背景技术

近年来,随着微电子及通讯技术的快速发展,半导体引线框架、LED、电子接插件等电子产品等为了达到芯片和线路板互联和焊锡等目的,这些产品都需要进行电镀,要求框架的镀层厚度、均匀性、硬度、光亮度都要一致;电子产品外形越来越趋小型化和微型化,因此作为基础分立器件的引线框架也日趋小型化、薄型化;

为满足制造集成电路半导体元件的需求,集成电路的引线框架表面的局部区域需电镀贵金属银或镍钯金,电镀时用电镀掩膜对其表面不需要进行电镀的部分进行保护,但是随着市场竞争越来越激烈和贵金属成本增加,快速换产需求增多,致使产品质量和生产效率不理想。

现有技术的缺点与不足是:在电子产品的电镀过程中,防渗效果不佳、镀区界痕不明显、容易出现渗银;模具上未设计镀区调整结构,无法对镀区进行调整;电镀液回流慢,镀层厚度不均;掩膜带更换浪费时间,安装难度高,安装工作复杂。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种选择性电镀条镀模,针对现有技术中的不足,在硅胶掩膜上增加防渗凸台,防止非镀区位置渗漏;设计限位针可调结构,快速更换限位针位置,减少模具修造时间和成本;设置模具回流槽改善药水回流效果,确保镀层的均匀性和电镀效率;掩膜带采用镶嵌式装配,更换时间短,提高模具利用率和减小操作工作量。

为达到上述目的,本实用新型的技术方案如下:一种选择性电镀条镀模,包括喷模本体、硅胶掩膜带、掩膜防渗凸台、镀区开口、喷模加强筋、陶瓷限位针、掩膜固定凸台、限位针孔、镀液回流槽,其特征在于:

所述喷模本体采用聚醚醚酮(PEEK)树脂材料CNC数控加工中心雕刻成型,所述喷模本体为圆环形结构,所述圆环形二个侧面设置有侧护盘,所述侧护盘盘面设置有外圆护盘和内圆护盘;所述喷模本体中间位置设置有多个镀区开口,所述镀区开口外侧为圆环条状相互平行的开口槽,所述镀区开口的二侧均匀设置有多个掩膜固定凸台;所述镀区开口内侧横向设置有多个喷模加强筋,所述喷模加强筋将所述镀区开口之间一体式固定连接;所述镀区开口内侧沿倾斜式设置,所述相邻二个喷模加强筋与镀区开口内侧沿之间构成镀液回流槽,所述镀液回流槽沿着所述镀区开口内侧均匀设置有多个,所述镀液回流槽呈漏斗形状;所述镀区开口二侧设置有硅胶掩膜带,所述硅胶掩膜带上设置有多个掩膜固定方孔,所述掩膜固定方孔与所述掩膜固定凸台尺寸与位置匹配设置,并通过所述掩膜固定方孔与所述掩膜固定凸台嵌套式装配;所述硅胶掩膜带二侧设置有环形的掩膜防渗凸台,相邻二条硅胶掩膜带上的掩膜防渗凸台密封夹持着所述的镀区开口,所述镀区开口与掩膜防渗凸台外侧装配有料带,所述料带外侧装配有压料带,所述压料带将所述料带压紧在所述镀区开口上方,并通过镀区开口二侧的掩膜防渗凸台密封;所述喷模本体上的外圆护盘内侧面上设置有多个凹形槽,所述凹形槽内设置有多个限位针孔,所述限位针孔内设置有陶瓷限位针,所述料带二侧设置有定位孔,所述定位孔的位置与孔径与所述陶瓷限位针匹配设置。

所述镀液回流槽侧边的倾斜角度范围为30度—75度。

所述硅胶掩膜带直径与所述喷模本体的镀区开口外径匹配设置。

所述镀区开口至少设置有二条;所述硅胶掩膜带至少设置有三条。

所述限位针孔每组至少设置二个。

所述陶瓷限位针为氧化锆材质,所述陶瓷限位针与所述限位针孔过盈装配固定。

所述喷模本体采用聚醚醚酮(PEEK)树脂做材料,聚醚醚酮树脂性能优异的特种工程塑料,与其他特种工程塑料相比具有更多显著优势,耐正高温260度、机械性能优异、自润滑性好、耐化学品腐蚀、阻燃、耐剥离性、耐磨不耐强硝酸、浓硫酸、抗辐射、超强的机械性能。

所述陶瓷限位针为氧化锆材质,耐磨性好,使用寿命长。精度高,耐腐蚀性好,可直接手持操作,无需特殊保存,热膨胀系数比钢更小。

所述硅胶掩膜带为高硬度硅橡胶材料制造的产品;尺寸稳定、长可操作时候和耐化学品,刮插性能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山一鼎电镀设备有限公司,未经昆山一鼎电镀设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420587620.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top