[实用新型]一种仿生的石斛培养装置有效
申请号: | 201420580444.2 | 申请日: | 2014-10-10 |
公开(公告)号: | CN204132117U | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 汪锡文 | 申请(专利权)人: | 汪锡文 |
主分类号: | A01G31/02 | 分类号: | A01G31/02 |
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地址: | 241300 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 仿生 石斛 培养 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种石斛培养装置,尤其是涉及一种仿生的石斛培养装置。
背景技术
目前,我国的石斛培养正进入大规模集约化种植模式中,现有的石斛培养模式包括了大棚培养以及树木附生培养模式。一方面,培养中加施大量的有机肥和无机肥则影响石斛的品质,使得石斛的药用功效降低,化学元素增多进一步影响石斛的品质。另一方面在树木附生的环境下病虫害难以控制,则需要喷施农药进行控制,这样会进一步影响石斛的品质。同时树木附生培养模式也不利于树木的生长并浪费自然资源。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种仿生的石斛培养装置,是利用香樟的驱虫特性设置的石斛培养装置,解决合理化种植问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种仿生的石斛培养装置,其特征在于:包括顶盖和底盖的圆环体以及导管,所述的导管的上、下端口和顶盖、底盖上设置的连接凸起套接,所述的导管上设置有环形的多层、多个分输管,每个分输管的一端连接一个活动槽,活动槽的中部搭设在圆环体上设置的开口处,在导管中、分输管中以及活动槽的槽体二分之一空间中均填充导水填充物,在活动槽的另一槽体二分之一空间中填充培养基,所述的圆环体中填充香樟木碎屑填充物,所述的顶盖中设置有多个通孔。
为了进一步实现仿生状态,所述的顶盖上设置有遮阳体,所述的遮阳体由设置在顶盖上的支杆、设置在支杆上顶托组成,所述的顶托上设置有栽植盆。
进一步,为了使活动槽使用稳固,在靠近开口下边缘的圆环体内设置有延展边。
有益效果:本实用新型采用自供式供水供肥装置,提供了适合石斛生长的湿度环境,同时提供了肥料的供应,确保了石斛的正常生长,节省了人工成本。特别是采用香樟木碎屑填充物的填充后,香樟木碎屑提供了天然抗虫害的生物药物特性,使得石斛的种植不需要施用抗虫害的药物,进一步提高了石斛的品质。
以下将结合附图和实施例,对本实用新型进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本实用新型的构造示意图。
图2为图1的局部俯视图,局部俯视图示意仿生的石斛培养装置的内部结构。
图中:1. 顶盖、2. 底盖、3. 圆环体、4. 导管、5. 连接凸起、6.分输管、7. 活动槽、8. 导水填充物、9. 填充培养基、10. 香樟木碎屑填充物、11. 通孔、12. 支杆、13. 顶托、14. 栽植盆、15. 延展边。
具体实施方式
实施例1:
如图1、2所示,一种仿生的石斛培养装置,包括顶盖1、底盖2、圆环体3、导管4,所述的导管4的上、下端与顶盖1、底盖2下部设置有连接凸起5套接,所述的导管4上环形设置四个分输管6并在导管上设置多层分输管6,每个分输管6的一端连接活动槽7,活动槽7的中部搭设在圆环体3上设置的开口8的下边,在导管4中、分输管6中以及活动槽7的槽体二分之一空间中均填充有导水填充物8,导水填充物8选用海绵10%、棉花25%、砺石10%、棕榈丝30%、葛根提取纤维30%,将海绵粉碎后与砺石混合,将棕榈丝平铺20平方厘米至40平方厘米,再将葛根提取纤维平铺在棕榈丝层上后将海绵和砺石的混合物放置在其中部卷起成柱形体,再用拉松后的棉花裹扎在柱形体上,并填充入导管4中压实。根据上述的方法和材料将分输管6填满导水填充物8,同时往每个活动槽7中填入活动槽7二分之一空间的导水填充物8,活动槽导水填充物8是选用海绵10%、棉花25%、砺石10%、棕榈丝10%、葛根提取纤维20%。将海绵粉碎至100目,棕榈丝和葛根提取纤维切碎至长0.5-0.8厘米,海绵和棕榈丝以及葛根提取纤维经混合后用拉松后的棉花包裹后塞入活动槽7中,在活动槽7的另一槽体二分之一空间中填充培养基9,所述的圆环体中填充香樟木碎屑填充物10,所述的顶盖1中设置有多个通孔11。
为了进一步实现仿生状态,所述的顶盖1上设置有遮阳体,所述的遮阳体由设置在顶盖上的支杆12、设置在支杆12上的顶托13组成,所述的顶托13上设置有栽植盆14,栽植盆14中可以种植藤蔓植物,向下生长的藤蔓植物有利于对每层石斛进行遮阳,并且还具有一定的保湿功能。为了使活动槽使用稳固,在靠近开口下边缘的圆环体3内设置有延展边15。
以上的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的范围进行限定,在不脱离本实用新型设计精神的前提下,本领域普通工程技术人员对本实用新型的技术方案做出的各种变形和改进,均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。
本实用新型未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
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