[实用新型]研磨垫有效
| 申请号： | 201420565878.5 | 申请日： | 2014-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN204108814U | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 钱继君;唐强;张溢钢;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
1.一种研磨垫，其特征在于，所述研磨垫至少包括：研磨垫底层、研磨垫表层和位于所述研磨垫表层内的沟槽；
其中，所述沟槽包括第一沟槽、第二沟槽和第三沟槽；所述第一沟槽位于所述研磨垫表层的中心区域；所述第三沟槽位于所述研磨垫表层的边缘区域；所述第二沟槽位于所述第一沟槽和所述第三沟槽之间；
所述第一沟槽纵截面的形状为设有倒角的U型；所述第三沟槽纵截面的形状为弧度大于180度小于300度的圆弧；所述第二沟槽纵截面的形状为直角U型。
2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述第三沟槽纵截面的形状为弧度为240度的圆弧。
3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于：所述研磨垫具有一个旋转中心，所述沟槽横截面的形状为若干个以所述旋转中心为圆心的同心圆环。
4.根据权利要求1、2或3所述的研磨垫，其特征在于：所述第一沟槽的深度大于所述第二沟槽的深度和所述第三沟槽的深度，所述第二沟槽的深度等于所述第三沟槽的深度。
5.根据权利要求4所述的研磨垫，其特征在于：所述第一沟槽的深度为8～12密耳，所述第一沟槽的宽度为5～10密耳。
6.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于：所述第二沟槽的深度为6～9密耳，所述第二沟槽的宽度为5～10密耳。
7.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于：所述第三沟槽的深度为6～9密耳，所述第三沟槽顶部的宽度为4～8密耳，所述第三沟槽的最大宽度处的宽度为6～11密耳。
8.根据权利要求7所述的研磨垫，其特征在于：所述第一沟槽的数目为3～5条，所述第二沟槽的数目为15～20条，所述第三沟槽的数目为3～5条。
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