[实用新型]真空溅射镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜装置，特别是涉及一种在真空环境下利用溅射效应对被镀物进行镀膜的真空溅射镀膜装置。

背景技术

溅射镀膜被广泛应用在玻璃、陶瓷、半导体等领域。一种现有的对玻璃进行镀膜加工的真空溅射镀膜装置具有溅射腔体，设置在腔体内的传递辊，设置在传递辊之间并与腔体底部连接的挡板，以及设置在腔体内的阴极靶材。腔体底部作为阳极，在放电气体的撞击作用下，阴极靶材中的原子朝向阳极飞溅出来并沉积在传递辊上的玻璃，以完成玻璃的镀膜加工。设置在传递辊之间的挡板为金属材质，可拦截阴极靶材溅出的原子或分子，防止阴极靶材溅出的原子或分子从传递辊之间的空隙或者两个玻璃之间的空隙沉积到传递辊面上或者其他器件上。该挡板的截面呈U形且需要与腔体底部呈绝缘设置，否则容易引起阴极靶材产生放电打弧等现象，从而严重影响到玻璃镀膜质量和生产效率。现有的做法是采用一L形板将该挡板固定于腔体底部，然而这种方式仍然容易造成挡板与腔体的导通。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种能够克服上述缺陷的真空溅射镀膜装置。

一种真空溅射镀膜装置，包括腔体、设于腔体内的靶材、多个传递辊以及多个挡板组件，所述腔体底部为阳极，所述靶材为阴极，所述传递辊用于传递被镀物，每一挡板组件设置在相邻的两个传递辊之间，且与腔体底部绝缘连接，该挡板组件包括固定板，绝缘件及挡板，所述固定板与腔体底部固定连接，所述绝缘件连接设置在固定板与挡板之间并使挡板与固定板、腔体底部绝缘。

在其中一个实施例中，所述腔体包括阴极盖及相对设置的阳极板框，所述阳极板框的底部作为阳极，所述靶材设置在阴极盖内，所述传递辊、挡板组件设置在阳极板框内，所述阳极板框上设置进口与出口以供被镀物进出该腔体。

在其中一个实施例中，所述阴极盖与阳极板框之间设置密封件。

在其中一个实施例中，所述固定板上设置固定孔，所述固定板通过固定件固定于腔体底部。

在其中一个实施例中，所述挡板包括基板以及设置在基板两侧的侧板，所述绝缘件位于两侧板及基板围成的空间内，所述侧板与固定板间隔设置。

在其中一个实施例中，所述侧板与固定板之间的间距为2-5mm，所述基板低于所述传递辊的最高点5-7mm。

在其中一个实施例中，所述挡板的截面呈U形或者Π形。

在其中一个实施例中，所述绝缘件与基板连接的一侧设置第一螺纹孔，所述绝缘件与固定板连接的一侧设置第二螺纹孔，所述基板、绝缘件和固定板之间通过螺丝连接，所述第一螺纹孔与第二螺纹孔不导通。

在其中一个实施例中，所述绝缘件与基板之间还设置螺孔板。

在其中一个实施例中，所述侧板至少部分与绝缘件间隔。

本实用新型提供的真空溅射镀膜装置通过对挡板组件作模组化设计，并借助绝缘件的设置，不但可保证挡板与腔体的绝缘性能，还能优化挡板组件的组装效率，使挡板组件拆装更为便利。

本实用新型提供的真空溅射镀膜装置可以对玻璃等物件进行镀膜加工。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的真空溅射镀膜装置的结构示意图。

图2为图1所示真空溅射镀膜装置中的挡板组件的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施的限制。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参考图1和图2，本实用新型一实施例提供的真空溅射镀膜装置以用于将玻璃进行镀膜加工为例进行说明，可以理解该真空溅射镀膜装置可用于其他被镀物的镀膜加工。该真空溅射镀膜装置包括腔体10、设于腔体10内的靶材20、多个传递辊30以及多个挡板组件40。