[实用新型]一种气源处理器调压装置有效
| 申请号: | 201420553506.0 | 申请日: | 2014-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN204114271U | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
| 发明(设计)人: | 林锦飞 | 申请(专利权)人: | 林锦飞 |
| 主分类号: | F16K17/20 | 分类号: | F16K17/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 325100 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 处理器 调压 装置 | ||
1.一种气源处理器调压装置,包括处理器本体,所述的处理器本体前端设置进气口,后端设置出气口,所述的进气口与出气口之间的气体通路中设置有向下的吸油通路,所述的吸油通路中设置有调压阀,所述的调压阀的阀芯上部连接有连杆,所述的连杆向上穿过所述的处理器本体后连接所述处理器本体上方的调压手柄机构。
2.根据权利要求1所述的一种气源处理器调压装置,其特征在于,所述的调压手柄机构包括固定于所述处理器本体上部的手柄座,所述的手柄座上方设置有调压手柄,所述的调压手柄其内部中心连接有转轴,所述的转轴下端通过连接件联动所述的连杆的上端,所述的手柄座与处理器本体之间固定有膜片,所述的连接件设置于所述膜片的中心,所述的转轴外侧设置有弹簧,所述的弹簧的两端被调压手柄和连接件限位。
3.根据权利要求1所述的一种气源处理器调压装置,其特征在于,所述的处理器本体与膜片之间形成反馈空间,所述的处理器本体上设置有反馈孔,所述的反馈孔连通所述的反馈空间和气体通路。
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