[实用新型]镁合金粉尘消除装置以及镁合金抛光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及镁合金加工，具体地，涉及一种镁合金粉尘消除装置以及镁合金抛光设备。 

背景技术

镁合金件加工工艺中涉及抛光工序，在镁合金抛光过程中会产生大量的细小粉尘，由于金属镁易燃性导致这些弥漫着空气中的镁合金粉尘极易燃烧甚至是爆炸，对人身安全是一种潜在安全隐患。 

在现有技术中，使用排气扇等装置对镁合金粉尘进行排除，虽然在一定程度上能够排出镁合金粉尘，但是一旦镁合金粉尘的浓度过大，镁合金粉尘与排气扇的叶片摩擦的几率增大以致摩擦生热而导致镁合金粉尘燃烧或爆炸。 

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种镁合金粉尘消除装置以及包含该镁合金粉尘消除装置的镁合金抛光设备，该装置能够高效地将镁合金粉尘吸入至水幕中进行消除，完全避免了燃烧爆炸的安全隐患。 

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种镁合金粉尘消除装置，该镁合金粉尘消除装置包括用于提供水幕的水幕提供机构以及负压提供机构，负压提供机构位于水幕提供机构的一侧将水幕提供机构的另一侧的镁合金粉尘吸入至水幕提供机构内。 

优选地，水幕提供机构为腔体结构，腔体结构的内壁的顶部设有多个喷淋头以提供水幕。 

优选地，镁合金粉尘消除装置还包括位于喷淋头下方的污水回收机构。 

优选地，镁合金粉尘消除装置还包括过滤机构和第一水泵，第一水泵一端与过滤机构的入水口相连，另一端与过滤机构的出水口相连。 

优选地，镁合金粉尘消除装置还包括第二水泵，第二水泵一端与过滤机构的出水口相连，另一端与喷淋头的入水口相连。 

优选地，负压提供机构为负压吸风机。 

本实用新型还提供了一种镁合金抛光设备，该镁合金抛光设备包括抛光装置和上述的镁合金粉尘消除装置；镁合金粉尘消除装置能够将抛光装置内排出的废气吸入至水幕提供机构内。 

优选地，抛光装置包括敞开的抛光操作台，水幕位于抛光操作台的一侧。 

根据上述技术方案，本实用新型通过设置水幕提供机构和负压提供机，负压提供机将含有镁合金粉尘的气体通过水幕吸入至水幕提供机构中，使得镁合金粉尘自水中进行沉积以达到消除镁合金粉尘的目的，从而彻底地消除了粉尘燃烧或爆照的安全隐患。 

本实用新型的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。 

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。在附图中： 

图1是本实用新型的优选实施方式中的镁合金抛光设备的结构示意图。 

附图标记说明 

1、抛光操作台                2、镁合金件 

3、镁合金粉尘                4、过滤机构 

5、喷淋头                    6、水幕 

7、负压吸风机                8、第一水泵 

9、第二水泵 

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。 

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，“内、一侧、另一侧”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位，或为本领域技术人员理解的俗称，而不应视为对该术语的限制。 

本实用新型提供了一种镁合金粉尘消除装置，如图1所示，该镁合金粉尘消除装置包括用于提供水幕6的水幕提供机构以及负压提供机构，负压提供机构位于水幕6提供机构的一侧将水幕6提供机构的另一侧的镁合金粉尘3吸入至水幕提供机构内。 

在上述实施方式中，水幕提供机构能够提供水幕6，负压提供机将含有镁合金粉尘的气体通过水幕6吸入至水幕提供机构中，使得镁合金粉尘自水中进行沉积以达到消除镁合金粉尘的目的，从而彻底地消除了粉尘燃烧或爆照的安全隐患。 

在本实施方式中，水幕提供机构可以是本领域任何一种能够提供水幕6的结构，可以是多个喷淋头5组合而成，也可以是在条形状的一体结构上设置多个喷淋孔以在水压下形成水幕6。为了便于控制数目的尺寸以及便于水幕提供机构的组装与拆卸，优选地，水幕提供机构为腔体结构，腔体结构的内壁的顶部设有多个喷淋头5以提供所述水幕6。