[实用新型]一种用于表面处理的投射装置

权利要求书

1.一种用于表面处理的投射装置，其特征在于，包括：驱动装置、转子、约束皮带及数个惰轮，所述转子在驱动装置的驱动下作旋转运动，所述约束皮带套设于转子及数个惰轮上，所述转子包括转子盖板、转子主体及转子支撑盘，所述转子主体内设有环形槽，所述转子主体的周壁设有数个抛射通道，所述约束皮带和转子分离处的切线方向为抛射方向，所述抛射通道具有中心点及中心线，所述抛射通道的中心线与过中心点的半径线之间的夹角为10°~30°。

2.如权利要求1所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述转子主体及转子盖板均由高性能工程塑料制成，所述转子支撑盘由金属材质制成。

3.如权利要求1所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述惰轮包括第一惰轮、第二惰轮、第三惰轮及第四惰轮，所述第一惰轮、第二惰轮及第三惰轮均用于张紧约束皮带，所述第四惰轮用于调制抛射方向。

4.如权利要求1所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述约束皮带呈“凹”型设置，所述约束皮带为高速平带或复合平带。

5.如权利要求1所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述投射装置用于投射弹性颗粒，所述弹性颗粒包括由弹性耐磨材料制成的颗粒及均匀地镶嵌在颗粒表面的研磨粉末。

6.如权利要求5所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述弹性耐磨材料为橡胶。

7.如权利要求5所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述研磨粉末为金刚石、碳化硅或氮化硼。

8.如权利要求1所述的一种用于表面处理的投射装置，其特征在于：所述驱动装置为马达。