[实用新型]双门拉晶炉

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体生产技术领域的设备，特别是涉及拉晶炉。

背景技术

拉晶炉是指半导体原料的分子在高温下进行排列整齐的装备，拉晶炉具有架子，架子上安装有可摇摆的炉体，炉体内具有炉腔，所述的炉体是长方体的结构，所述的炉腔也是长方体的空腔，空腔的深度就是长方体的长，也就是说炉腔是较深的；现有技术中，拉晶炉只有一个门，这样在向炉腔里面放置拉晶管时具有安装麻烦的缺点，另外，现有技术中，拉晶炉的底部还往往有支撑拉晶管的支撑部位，这些支撑部位容易损坏，一个门的拉晶炉具有维修支撑部位困难的缺点。

发明内容

本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种使用方便、维修支撑部位方便的拉晶炉——双门拉晶炉。

本实用新型的技术方案是这样实现的：双门拉晶炉，具有架子，架子上安装有可摇摆的炉体，炉体内具有炉腔，所述的炉体是长方体的结构，所述的炉腔也是长方体的空腔，空腔的深度就是长方体的长，拉晶炉的开口处设置有炉门，其特征是：所述的拉晶炉底部设置第二个开口，第二个开口处铰接有第二个炉门。

进一步地讲，所述的第二开口设置在底部的侧面。

本实用新型的有益效果是：这样的双门拉晶炉具有使用方便、维修支撑部位方便的优点。

附图说明

图1是本实用新型的剖面结构示意图。

图2是本实用新型的有一种情况的结构示意图。

其中：1、架子    2、炉体   3、炉腔   4、炉门   5、第二个炉门。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1所示，双门拉晶炉，具有架子1，架子1上安装有可摇摆的炉体2，炉体2内具有炉腔3，所述的炉体是长方体的结构，所述的炉腔也是长方体的空腔，空腔的深度就是长方体的长，拉晶炉的开口处设置有炉门4，其特征是：所述的拉晶炉底部设置第二个开口，第二个开口处铰接有第二个炉门5。

由于设置第二个炉门5，向炉腔内部放置拉晶管时可以在炉体的两端操作，对炉体的维修也很方便，具有本实用新型的优点。

进一步地讲，所述的第二开口设置在底部的侧面，如图2所示，这样放置材料时更方便。

以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。