[实用新型]硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201420537530.5 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN204109466U | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 孟怡敏;白留森;耿学文;谢培才 | 申请（专利权）人： | 洛阳新晶润工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B17/06;B32B15/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 471003 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅基单银可钢化低 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于，包括玻璃基片(1)和镀膜层(2)，镀膜层(2)设置于玻璃基片(1)的表面，且镀膜层(2)从底层向上依次包括：氮化硅膜层(21)、镍铬膜层(22)、银膜层(23)、镍铬膜层(24)、氧化锡膜层(25)、氮化硅膜层(26)。
2.根据权利要求1所述的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃,其特征在于，所述的氮化硅膜层(21)的厚度为20～40纳米；所述的镍铬膜层(22)的厚度为3～6纳米；所述的银膜层(23)的厚度为8～12纳米；所述的镍铬膜层(24)的厚度为3～6纳米；所述的氧化锡膜层(25)的厚度为20～40纳米；所述的氮化硅膜层(26)的厚度为20～40纳米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于洛阳新晶润工程玻璃有限公司，未经洛阳新晶润工程玻璃有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420537530.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种压板状态检测装置
- 下一篇：一种纸盒盒身纸板组装装置
