[实用新型]一种用于制备超细高纯的氧化铽的装置有效
| 申请号: | 201420518054.2 | 申请日: | 2014-09-10 |
| 公开(公告)号: | CN204079512U | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
| 发明(设计)人: | 王琳丽;刘书文;范佳升;李大宇 | 申请(专利权)人: | 清远市嘉禾稀有金属有限公司 |
| 主分类号: | C01F17/00 | 分类号: | C01F17/00 |
| 代理公司: | 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 | 代理人: | 蔡国;黄为 |
| 地址: | 511517 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 制备 细高 氧化 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及稀土材料领域,特别是一种用于制备超细高纯的氧化铽的装置。
背景技术
氧化铽(Terbium Oxide)属于稀土氧化物,化学式:Tb4O7,分子量747.70;密度为:7.3g/cm3;熔点为:2340℃;性状为:棕褐色粉末;物化性质为:不溶于水和碱但溶于酸。
氧化铽作为一种主要的功能材料,用于制作金属铽,磁光玻璃、荧光粉、磁光贮存材料,化工添加剂等。
铽在十五种稀土元素中属于中、重稀土,在地壳中含量很低,仅为1.1ppm,即便是在含铽最高的高钇离子型重稀土矿中,铽的含量也仅占总稀土的1.1-1.2%。一般的中钇富铽料中铽的含量在0.6-0.8%,至于以轻稀土为主的我国北方矿中铽的含量在总稀土中的含量不足0.01%。正是由于铽的稀缺和贵重,因而其应用领域相当局限,但是,随着电子信息产业的迅猛发展,铽基稀土的新型功能材料应运而生,铽的许多优异特性使其成为新型功能材料中不可缺少的一员,并且在某些领域中处于其它材料无可取代的地位。由于铽稀少,所以价格昂贵,且制备高品位铽较为困难,因此,人们迫切希望找到一种制备成本低的方法。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种用于制备超细高纯的氧化铽的装置。
本实用新型提供的技术方案为:一种用于制备超细高纯的氧化铽的装置,包括依次连接的第一反应釜、过滤器、第二反应釜、第一萃取罐、第二萃取罐、沉淀反应器、焙烧炉、冷却器、除尘器和尾气处理器,所述的沉淀反应器包括罐体、设在罐体内的搅拌杆、搅拌电机,所述的搅拌杆上设有多组搅拌叶组,所述的罐体内部的底部设有多个扰流板。
在上述的用于制备超细高纯的氧化铽的装置中,所述的扰流板为弧形。
在上述的用于制备超细高纯的氧化铽的装置中,所述的扰流板的数量为18个,以搅拌杆为中心对称分布在罐体的底部。
本实用新型通过改变沉淀反应器中的底部液层的流动性,降低成熟粒子间结合的概率,其主要通过在罐体的底部设置多个扰流板,使成熟的粒子能够在罐体的底部持续运动直至沉淀反应进行完全,然后通过罐体的底部的出口放出即可,降低了粒子沉积后不成熟的沉淀粒子即比表面积大的沉淀粒子之间的结合的可能性。
附图说明
图1是本实用新型的具体实施例1的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式,对本实用新型的技术方案作进一步的详细说明,但不构成对本实用新型的任何限制。
实施例1
如图1所示,一种用于制备超细高纯的氧化铽的装置,包括依次连接的第一反应釜1、过滤器2、第二反应釜3、第一萃取罐4、第二萃取罐5、沉淀反应器6、焙烧炉7、冷却器8、除尘器9和尾气处理器10,所述的沉淀反应器6包括罐体61、设在罐体61内的搅拌杆62、搅拌电机63,所述的搅拌杆62上设有多组搅拌叶组,优选为三组,分别为第一搅拌叶组621、第二搅拌叶组622和第三搅拌叶组623,其宽度由上而下依次减小,所述的罐体61内部的底部设有多个扰流板64,所述的扰流板64为弧形,所述的扰流板64的数量为18个,以搅拌杆62为中心对称分布在罐体61的底部。通过改变沉淀反应器中的底部液层的流动性,降低成熟粒子间结合的概率,其主要通过在罐体61的底部设置多个扰流板64,使成熟的粒子能够在罐体61的底部持续运动直至沉淀反应进行完全,然后通过罐体61的底部的出口放出即可,降低了粒子沉积后不成熟的沉淀粒子即比表面积大的沉淀粒子之间的结合的可能性。其中,焙烧炉通过燃气混合空气对萃取液进行焙烧。
其中,第一反应釜1的作用是将含有稀土的混合物在酸中进行溶解,得到氯化铽,然后过滤除去不溶物,进入第二反应釜3调节Ph值,然后进入第一萃取塔4进行萃取,通过氯化铽的良溶剂抽提氯化铽,轻组分进入第二萃取塔5,采用另一良溶剂继续抽提氯化铽,得到的萃取提纯溶液进入沉淀反应器6进行沉淀反应,然后将沉淀导入焙烧炉7焙烧分解,得到氯化铽,经内部设有冷凝管82的冷却器8冷却后经过除尘器9收集氧化铽粉末,废气经尾气处理器10进行处理。
以上所述的仅为本实用新型的较佳实施例,凡在本实用新型的精神和原则范围内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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