[实用新型]一种具有真空吸附载具的浸釉机有效

专利信息
申请号: 201420512874.0 申请日: 2014-09-09
公开(公告)号: CN204162609U 公开(公告)日: 2015-02-18
发明(设计)人: 王林 申请(专利权)人: 王林
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 王峰
地址: 521031 广东省潮州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 真空 吸附 浸釉机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及浸釉机的技术领域,特指一种具有真空吸附作用的载具吸住坯体实现浸釉操作,以实现浸釉工序自动化的浸釉机。

背景技术

浸釉是陶瓷施釉技法之一,又称“蘸釉”。将坯体浸入釉中片刻后取出,利用坯的吸水性使釉浆附着于坯上,釉层厚度由坯的吸水性、釉浆浓度、浸渍时间进行控制,适用于厚胎坯体及杯碗类制品施外釉。

目前,大多数日用陶瓷生产厂家均采用人工上釉的方式,即工人用手拿着陶瓷坯体往釉浆里浸,坯体在釉浆里停留一定时间后,取出坯体,釉浆就覆盖在坯体表面上,反复操作直至完成。产品的质量受人工因素的影响较大,因浸釉时间不稳定,造成产品质量不稳定,而且工序为手工操作,工作效率低下,加之,随着人工成本的提高、生产规模的不断扩大,这种手工上釉模式严重制约了企业的发展。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足之处而提供一种具有真空吸附载具的浸釉机,该浸釉机实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,降低生产成本。

为实现上述目的,本实用新型采用如下的技术方案:

一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身和工作台,所述工作台由一连接有旋转动力源的定位装置、多个设于定位装置上的真空吸附装置以及一与旋转动力源相连接的底座组成,该底座通过一提升或降低定位装置的升降机构与机身相连接,在工作台前方的机身上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池。

所述机身两边设有支撑柱,于各支撑柱上分别安装了具有导轨的支撑部,与机身相连接的底座通过一两端横向滑动连接在两导轨之间的连接背板和机身相连接,设置在底座上的定位装置一端延伸至两边支撑柱的支撑部上,于定位装置的上表面形成水平面。

所述连接背板两端设有滑块,该连接背板通过各滑块连接在对应一边的导轨上,该连接背板通过一传动杆与减速机相连接,该减速机设于机身的底部,减速机、传动杆以及连接背板共同构成上述之升降机构。

所述真空吸附装置由与真空室相连通的真空管以及设于真空管顶端的载具组成,各真空吸附装置连接在提供真空吸附动力的同一真空室上,各真空吸附装置等距设置,各载具设置在同一直线上,该直线与定位装置表面相互平行。

所述真空室连接有抽风机,该抽风机设于机身外部。

所述釉水池底面设有过滤网。

所述各真空吸附装置对应设有移动完成浸釉作业之坯体的气缸手臂。

所述各真空吸附装置对应设有清洁载具的海绵转头。

本实用新型的有益效果在于:其通过具有真空吸附作用的载具吸住坯体,以代替人工浸釉,实现了浸釉工序的自动化,有效减少人工,缩短浸釉时间,显著节约能源,提高产品质量和数量,使得坯体的浸釉效果更为均匀,而且降低了生产成本。

附图说明

图1 是本实用新型的结构示意图之主视图。

图2 是本实用新型的使用状态示意图之一。

图3 是本实用新型的使用状态示意图之二。

图4 是本实用新型的结构示意图之俯视图。

具体实施方式

以下结合说明书附图对本实用新型作进一步说明:如图1-4所示,本实用新型关于一种具有真空吸附载具的浸釉机,它包括机身1和工作台2。

如图1-3所示,工作台2由一连接有旋转动力源22的定位装置21、多个设于定位装置21上的真空吸附装置23以及一与旋转动力源22相连接的底座24组成,该底座24通过一提升或降低定位装置21的升降机构11与机身1相连接,在工作台2前方的机身1上设有一提供浸釉所需釉水的釉水池3,该釉水池3底面设有过滤网,形成网状过滤槽,每隔一定时间进行自动倒出,防止产品脱落导至釉水池3堵塞或溢出。

如图1-3所示,机身1两边设有支撑柱12,于各支撑柱12上分别安装了具有导轨的支撑部13,与机身1相连接的底座24通过一两端横向滑动连接在两导轨之间的连接背板111和机身1相连接,设置在底座24上的定位装置21一端延伸至两边支撑柱12的支撑部13上,于定位装置21的上表面形成水平面。

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