[实用新型]兰花种植基质薰蒸池有效

专利信息
申请号: 201420486940.1 申请日: 2014-08-27
公开(公告)号: CN204133881U 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 雷佳;雷兴龙;普艳红 申请(专利权)人: 云南省玉溪市佳利太阳能设备有限公司;玉溪市岁兰花卉有限公司
主分类号: A61L2/07 分类号: A61L2/07
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 653101 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 兰花 种植 基质 薰蒸池
【权利要求书】:

1.兰花种植基质薰蒸池,其特征在于:该薰蒸池(2)的一侧安装有进水管(3)和排水管(1),池内上部安装有固定桩(4),固定桩(4)下活动安装压料杆(5),在池子底部安装有蒸汽排管(6),蒸汽排管(6)上开有出气孔(7),蒸汽排管(6)的一端连接到一根横管(8)上,横管(8)用连接管(9)接到池外蒸气锅炉(10)的出气管(11)上。

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