[实用新型]一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置

权利要求书

1.一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置，其特征在于，包括场镜(1)、半透半反镜(2)、电动变倍镜头(3)、摄像机(4)和位移平台(6)；

所述半透半反镜(2)与成像光路光轴呈45度角放置，实现成像光路光轴的90度变换，激光光路光轴与成像光路光轴重合；所述半透半反镜(2)的透射侧设置有所述场镜(1)，所述半透半反镜(2)的反射侧设置有所述电动变倍镜头(3)；

用于放置加工工件(5)的位移平台(6)设置在激光光路上，所述摄像机(4)与所述电动变倍镜头(3)固定连接；所述场镜(1)的焦平面和所述摄像机(4)的成像面重合。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，工作时，加工工件(5)放置在所述位移平台(6)上，场镜(1)发出的激光经所述半透半反镜(2)透射后作用在所述加工工件(5)；所述加工工件(5)反射的可见光经所述半透半反镜(2)反射后进入所述电动变倍镜头(3)，并到达摄像机(4)成像平面。

3.如权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述半透半反镜(2)为双面镀有激光波段的高透膜且反射面镀有可见光高反膜的半透半反镜。

4.一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置，其特征在于，包括场镜(1)、半透半反镜(2)、电动变倍镜头(3)、摄像机(4)和位移平台(6)；

所述半透半反镜(2)与成像光路光轴呈45度角放置，实现成像光路光轴的90度变换，激光光路光轴与成像光路光轴重合；所述半透半反镜(2)的透射侧设置有所述电动变倍镜头(3)，所述半透半反镜(2)的反射侧设置有所述场镜(1)；

用于放置加工工件(5)的位移平台(6)设置在激光光路上，所述摄像机(4)与所述电动变倍镜头(3)固定连接；所述场镜(1)的焦平面和所述摄像机(4)的成像面重合。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，工作时，加工工件(5)放置在所述位移平台(6)上，场镜(1)发出的激光经所述半透半反镜(2)反射后作用在所述加工工件(5)上；所述加工工件(5)反射的可见光经所述半透半反镜(2)透射后进入所述电动变倍镜头(3)，并到达所述摄像机(4)成像平面。

6.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述半透半反镜(2)为双面镀有可见光波段的高透膜且透射面镀有激光波段高反膜的半透半反镜。