[实用新型]转架用通用型PVD涂层托架有效

专利信息
申请号: 201420475799.5 申请日: 2014-08-21
公开(公告)号: CN204039492U 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 蔡平;朱振华 申请(专利权)人: 江苏海事职业技术学院
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50
代理公司: 常熟市常新专利商标事务所 32113 代理人: 何艳
地址: 211170 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 转架用 通用型 pvd 涂层 托架
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于PVD涂层设备技术领域,具体涉及一种转架用通用型PVD涂层托架,适用于小型零件、小型刀具PVD涂层处理。

背景技术

PVD(英文全称:Physical Vapor Deposition,中文名称:物理气相沉积)是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并将被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上的工艺。PVD是一种表面处理的标准化称谓,其处理温度低,在600℃以下时对工件材料的抗弯强度无影响,经过PVD涂层加工后的工件,具有超硬、耐磨、化学稳定性好等优点,使用寿命可提高3~5倍左右。PVD涂层广泛应用于小型刀具、装饰件、高要求机械零部件以及高精密集成电路的模具等,是一种真正能够获得微米级镀层且无污染的、环保型表面处理方法。

从PVD系统中的源流出的涂料流是相对稳定的,但它们具有一定的空间分布,所述的空间分布在工件保持静止的情况下会导致沉积的膜具有不均匀的厚度。为了提高均匀度,所述源与工件之间的几何关系必须进行适当的选择。目前常用的方法是将所述工件通过涂层托架安装在行星结构中的多个中心轴上进行旋转。由于工件品种繁多,尺寸、形状也各有不同,所述每个涂层托架为了追求通用性往往无法一次装载多个工件,因此不能满足一次性完成大批量加工的要求;另外涂层效果也欠佳。

    鉴于上述已有技术,本申请人作了有益的设计,下面将要介绍的技术方案便是在这种背景下产生的。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、一次能同时对多个工件进行PVD表面涂层处理,且涂层均匀、效果好的转架用通用型PVD涂层托架。

    本实用新型的目的是这样来达到的,一种转架用通用型PVD涂层托架,所述的转架包括转架本体以及设在转架本体上的转架中心轴和旁轴,其特点是:所述的通用型PVD涂层托架包括底圈、中圈、顶圈、衬套、支撑台以及拨片组件,所述的底圈呈环状,在上端面围绕圆周方向构成一凸起于表面的中圈限位凸台,所述的中圈转动地套设在中圈限位凸台的外圆周上,中圈在圆周外边缘延伸形成一凸耳和一限位凸缘,所述的限位凸缘与旁轴配合,对中圈进行限位固定;所述的顶圈叠设在底圈上,顶圈的轴向中间开设一用于供转架中心轴插配而藉以将该托架安装到转架本体上的中心轴孔,顶圈沿圆周方向间隔开设多个衬套容置孔;所述的衬套有多个,与衬套容置孔一一对应构成插配连接;所述的支撑台的数量与衬套相同,每一支撑台包括旋转轴和旋转齿轮,所述的旋转轴转动地枢置在对应的衬套中,所述的旋转齿轮固定在旋转轴的顶端;所述的拨片组件固定安装在所述的中圈的凸耳上且与所述的旋转齿轮相配合,旋转齿轮由拨片组件拨动而旋转,带动旋转轴在衬套中旋转。

在本实用新型的一个具体的实施例中,所述的衬套容置孔、衬套以及支撑台的数量均为二十个。

在本实用新型的另一个具体的实施例中,所述的拨片组件包括拨片座和拨片,所述的拨片座的底端固定安装在所述的凸耳上,拨片座在顶端朝向旋转齿轮开设拨片容置槽;所述的拨片为L型,其长度方向的一端嵌装在拨片容置槽中,拨片长度方向的另一端端部构成为折边,该折边与旋转齿轮触碰,拨动旋转齿轮旋转。

在本实用新型的又一个具体的实施例中,所述的旋转齿轮在上表面开设用于辅助工件固定的定位孔。

本实用新型由于采用了上述结构,可用作小型零件、小型刀具等工件的通用型PVD涂层托架,所述的托架具备多个支撑台,一次能同时对多个工件进行PVD表面涂层处理,满足了一次性大批量加工的要求;同时结构简单,能确保涂层均匀、效果好。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图。

图2为本实用新型一实施例的剖视图。

图3为本实用新型一应用例的结构示意图。   

图中:1.底圈、11.中圈限位凸台;2.中圈、21.凸耳、22.限位凸缘;3.顶圈、31.中心轴孔、32.衬套容置孔;4.衬套;5.支撑台、51.旋转轴、52.旋转齿轮、521.定位孔;6.拨片组件、61.拨片座、611.拨片容置槽、62.拨片;7.转架本体、71.转架中心轴、72.旁轴。

具体实施方式

    申请人将在下面结合附图对本实用新型的具体实施方式详细描述,但申请人对实施例的描述不是对技术方案的限制,任何依据本实用新型构思作形式而非实质的变化都应当视为本实用新型的保护范围。

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