[实用新型]数控水磨配套清洗桌有效
| 申请号: | 201420475169.8 | 申请日: | 2014-08-22 | 
| 公开(公告)号: | CN203991477U | 公开(公告)日: | 2014-12-10 | 
| 发明(设计)人: | 王仲伟;季明其;杨加华 | 申请(专利权)人: | 优德精密工业(昆山)股份有限公司 | 
| 主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02 | 
| 代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 | 
| 地址: | 215316 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 数控 水磨 配套 清洗 | ||
1.一种数控水磨配套清洗桌,包括桌体,其特征在于:还包括外封铁板、外封漏斗,所述桌体包括支架、栅格板,所述支架分别与栅格板底部四角相连接;所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板,三块外封铁板顶部水平密封有一块外封铁板;所述栅格板底部连接有外封漏斗。
2.根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌,其特征在于:还包括固定板,所述固定板与四根支架下部相连接,用于增加桌体强度。
3.根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌,其特征在于:还包括气枪、气枪架,所述气枪架设置在栅格板侧面,所述气枪放置在气枪架上。
4.根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌,其特征在于:还包括切削液回收装置,所述切削液回收装置通过管道与外封漏斗底部相连接。
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