[实用新型]虹吸式撞击雾化器

说明书

技术领域

本实用新型属于材料制备技术领域，特别涉及一种虹吸式撞击雾化器。

背景技术

近年来，雾化热分解沉积装置广泛用于化学法薄膜制备和纳米粉体制备领域，其中溶液雾化装置是其关键设备。目前主流的雾化装置主要有压力液流雾化和超声波雾化两种装置，其中压力液流雾化装置采用高压液流和高压气流混合后通过狭缝或小孔喷射形成高速运动的雾化液滴，所需要的气流量大，雾化效率高、液滴飞行速度高；超声波雾化装置采用超声波晶片振动能量使溶液雾化，然后采用另外的输送气体将产生的雾滴进行输送。其应用于雾化热分解薄膜沉积领域面临的主要问题在于：

对于压力液流雾化装置：

1、雾化流量(速率)、雾化液滴尺寸受液流压力和气体压力控制，通常尺寸较大，约为3μm～15μm，尺寸分布比较宽，相互干扰，难于控制和微细调节；

2、雾化液滴飞行速度高，沉积过程伴随着气流和液滴对基板的撞击，沉积过程中流场紊乱、对基板的吸热降温显著，易于造成基板表面沉积不均匀、温度骤降、基板炸裂、反应不完全等问题，不仅影响膜层质量、而且大量废气排放和环境污染也是其必须面对的问题；

3、雾化喷嘴承受高压液流冲击，通常采用金属制件，加工精度要求高，不耐受酸碱腐蚀性介质，生产维护成本高。

对于超声波雾化装置：

1、超声波晶片不便于工作在酸性、碱性等腐蚀性介质环境；

2、雾化粒径微细约为3μm～5μm，但受到超声波能量的限制，不能对高浓度的溶液起雾，也不能对溶剂分子量大于50以上的溶液雾化；

3、形成的气雾温和平缓，需要风机鼓风或另外的气流输送装置来完成气雾输送，工作机构复杂；

4、由于工作过程中晶片发热，导致镀膜前驱溶液体系不稳定和沉淀产生；

5、生产效率较低，维护成本高，不适合薄膜制备的工业化生产。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供简单紧凑，易调节控制雾化流量、易维护，无残留，耐酸碱腐蚀性环境，适合工业化生产的虹吸式撞击雾化器。

本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是：虹吸式撞击雾化器，其特征在于：包括液体虹吸套管、气体压缩管和封闭的盛液容器，气体压缩管竖向置于盛液容器内腔，并向下密封穿出盛液容器的底部，液体虹吸套管布置在盛液容器内，液体虹吸套管下端为开口端，液体虹吸套管套置在气体压缩管外，液体虹吸套管与气体压缩管之间留有均匀间隙，液体虹吸套管下端与盛液容器底部固定，液体虹吸套管下端周边开设连通的孔道以通过液体，液体虹吸套管的上部侧壁环周均布有与气体压缩管上端口对应的雾化孔；盛液容器的上端设置有气雾导口、液体加入口，液体加入口设置有密封盖。

进一步地，所述置于盛液容器内的气体压缩管为上口小下口大的锥形，气体压缩管截面压缩比1：50～200。

进一步地，所述液体虹吸套管的上端中部螺纹连接有调节螺栓，调节螺栓的下端向下延伸到液体虹吸套管的内腔，调节螺栓的下端螺纹连接有圆柱形的雾化屏，雾化屏的下端面为平面，雾化屏的下端面与气体压缩管的上端口相对设置，气体压缩管的上端出口与雾化屏同轴线设置。

进一步地，所述液体虹吸套管的底部设置有2～6个进液孔，液体虹吸套管与气体压缩管之间间隙宽度为0.5mm～3mm。

进一步地，所述调节螺栓的调节范围约为0.01mm～5mm。

进一步地，所述雾化屏下端面的直径与气体压缩管上端出口直径比值为0.8～1.5。

本实用新型的有益效果为：本实用新型结构只有盛液容器和固定的气体管路，部件均能采用聚四氟乙烯材料和耐腐蚀橡胶加工制造，没有金属类机械运动部件，耐酸碱腐蚀性强，结构简单紧凑，易维护；容器内溶液结构原理上可以100％通过虹吸套管进行完全雾化，少残留；连接部位采用螺纹结构，易拆换维修，适合工业化连续生产的雾化工况；本实用新型通过气体压缩形成高速液流的负压虹吸效应携带液流撞击雾化屏的虹吸式撞击雾化结构来形成气雾，气雾运动平缓、温和，可以对各种酸碱度的、各种浓度的、腐蚀性的液体进行微米级均匀雾化。

附图说明

图1为虹吸式撞击雾化器的结构示意图。

图中：1、气雾导口，2、密封盖，3、液体加入口，4、盛液容器，5、锁紧螺母，6、液体虹吸套管，7、气体压缩管，8、气压调节阀，9、进液孔，10、雾化孔，11、雾化屏，12、调节螺栓。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步说明，但本实用新型并不局限于具体实施例。

实施例1