[实用新型]曝光设备的光源装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于曝光设备中的光源装置。

背景技术

在制造电路板的制程中，需采用光学微影蚀刻的步骤在电路板基板上形成电路图案(pattern)，该光学微影蚀刻是在将电路板基板上涂布光阻层，并利用曝光设备曝光，再借由显影、蚀刻的过程使电路图案形成在该电路板基板上。其中，该曝光设备将光投射至曝光平面上而形成曝光区域，涂布有光阻层并设置有光罩的电路板基板对位放置于该曝光区域内，借由光的能量让光阻感光后发生化学反应，使得被曝光的光阻与被光罩遮避的光阻对显影液具有不同的溶解度。该曝光区域内有曝光均匀度的要求，即在该曝光区域的范围内任一点接收到的能量必须在特定范围内，才能使该电路板基板上被曝光部分的光阻的溶解度一致。

现有曝光设备的光源装置具有排列成多列的多个光源模块，每一光源模块具有LED及在该LED前方的透镜，每一光源模块的LED发出的光线经过该透镜折射后形成锥状光束投射至曝光平面上，每一光源模块的LED投射到该曝光平面的光强度会由中心朝边缘递减，即在邻近中心位置所接收到的光强度较强，而远离中心位置接收到的光强度较弱。因此，为了达成曝光区域内的曝光均匀度的要求，必须依据投射到该曝光平面上的相邻光束重叠的区域的光强度与投射到该曝光平面上的每一光束中心位置的光强度，来精密地调整这些光源模块之间的相对位置，以使所有LED共同投射到该曝光平面上所形成的曝光区域内的光强度均匀。这样，导致了现有曝光设备的光源装置结构复杂，导致装设、维护及校正困难及成本高昂等缺点。

实用新型内容

为解决上述现有技术的缺陷，本实用新型的主要目的在于提供一种曝光设备的光源装置，其可射出平行光光束，以使该曝光平面上所形成的曝光区域内的光强度均匀。

为达上述目的及其他目的，本实用新型提供一种曝光设备的光源装置，包含固定夹具及多个光源模块，这些光源模块设置在该固定夹具上并排列成多列，且这些光源模块彼此之间有间距，每一光源模块包含基座、第一透镜、光源单元、第二透镜及第一调整件或第二调整件，该基座具有容置槽；该第一透镜设置于该基座的容置槽的开口上；该光源单元设置于该容置槽的底面，该光源单元具有电路板及设置于该电路板上的LED；该第二透镜设置于该LED上，该第二透镜的面积小于该第一透镜；该第一调整件连接该第一透镜与该基座，用于调整该第一透镜与该第二透镜间的距离，该第二调整件连接该第二透镜与该基座，用于调整该第一透镜与该第二透镜间的距离；其中，该光源单元的LED发出的光线经由第二透镜折射后再被该第一透镜折射而呈平行光射出。

上述的曝光设备的光源装置，其中进一步包含至少一侧板，组装至该固定夹具的侧面上，该侧板上具有多个风扇安装孔。

上述的曝光设备的光源装置，其中每一光源模块与其最邻近的光学模块的中心距为定值。

上述的曝光设备的光源装置，其中该固定夹具的底面上具有多个定位孔，以供借由螺丝锁固至少一驱动器。

上述的曝光设备的光源装置，其中该第一透镜朝向该第二透镜的第一表面为平面，该第二透镜朝向该LED的第二表面为平面。

上述的曝光设备的光源装置，其中该第一调整件为垫片，该第二调整件为垫片。

据此，本实用新型的曝光设备的光源装置借由设置在该固定夹具上并排列成多列的这些光源模块的光线呈平行光射出，而使该光源装置具有平行光光束，进而使曝光平面上的曝光区域接收到均匀分布的光强度。

附图说明

图1为本实用新型实施例的光源装置的立体示意图。

图2为本实用新型实施例的光源装置的另一立体示意图。

图3为本实用新型实施例的光源装置的侧面示意图。

图4为本实用新型实施例的光源装置中光源模块的立体示意图。

图5为本实用新型实施例的光源装置中光源模块的剖面示意图。

主要部件附图标记：

1                光源模块

2                固定夹具

3                侧板

4                风扇安装孔

5                驱动器

6                定位孔

10               基座

11               容置槽

20               第一透镜

21               第一表面