[实用新型]真空镀膜装置

权利要求书

1.一种真空镀膜装置，适用于对玻璃基片的真空镀膜，其特征在于：包括主腔体、小腔体、蒸发管道、真空泵、晶振检测仪和设置有线性蒸发源的副腔体，所述主腔体内设置有用于玻璃基片传输的基片传输机构，所述主腔体位于所述副腔体上方并通过一可开闭的挡板与所述副腔体隔开，所述小腔体位于所述主腔体上方并通过一阀门与所述主腔体隔开，所述蒸发管道的入口与所述线性蒸发源相接触，所述蒸发管道的出口穿过所述挡板和主腔体朝向并临近所述阀门；所述晶振测试仪包括晶振片和检测机构，所述晶振片安装在所述小腔体内且位于所述蒸发管道出口的上方，所述检测机构测量晶振片本身的频率变化并计算出接近实际镀膜厚度的测量镀膜厚度和相应的测量膜厚速率；所述真空泵通过两条真空管道分别与主腔体和小腔体相连。

2.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述晶振片正对所述蒸发管道出口。

3.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：两所述真空管道上均安装有真空闸阀。

4.如权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述检测机构包括与所述晶振片相连的输入单元、与所述输入单元相连的比较处理单元、与所述比较处理单元相连的存储单元，以及与所述比较处理单元输出端相连的命令单元，所述命令单元的输出端与所述挡板相连并用于控制所述挡板的开闭。

5.如权利要求4所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述比较处理单元包括与所述输入单元相连的比较单元、与所述比较单元相连的计算单元，以及与所述计算单元相连的校正单元。

6.如权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述校正单元包括距离校正单元和角度校正单元。