[实用新型]一种新型紫外辐照装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种新型紫外辐照装置。

背景技术

为了提高高分子膜的亲水性，需要对高分子膜进行紫外辐照处理，目前广泛使用的紫外辐照装置普遍存在反应温度无法控制，反应进行中反应溶液温度和浓度不均匀的问题，同时反应液槽内存在的氧气也会对高分子膜的紫外辐照处理产生影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服以上不足，提供一种新型紫外辐照装置，能够有效解决现有紫外辐照装置不能控制反应温度，反应进行中反应溶液温度和浓度不均匀的问题，并去除反应液槽内存在的氧气。

为了解决上述问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种新型紫外辐照装置，包括反应室和温控系统两个部分，所述的反应室包括紫外灯、反应液槽、密封盖板、多孔隔板、磁力搅拌器、磁子、进气管和出气管，所述的温控系统包括显示屏、操作按钮、温度传感器和加热片，所述的紫外灯设置于反应室内上顶部，所述的磁力搅拌器设置于反应室内下底部，所述的加热片设置于磁力搅拌器的上方，所述的反应液槽的设置于加热片的上方，所述的温度传感器设置于反应液槽内，所述的温控系统能够设定反应液槽中反应溶液的温度，通过温度传感器即时探测反应溶液的温度，并通过加热片进行温度调节，所述的反应液槽上端设置有密封盖板，密封盖板的材质为石英玻璃，所述的密封盖板的右侧设置有进气管，左侧设置有出气管，能够去除反应液槽内的氧气，所述的反应液槽内设置有多孔隔板，所述的磁子放置于多孔隔板的下方，能够 阻止高分子膜与磁子的接触，防止高分子膜被磁子磨损，所述的磁力搅拌器可以带动磁子转动，使反应溶液的温度和浓度均匀。

与现有技术相比，本实用新型的优点是：结构简单，设计合理，反应温度可以得到准确控制，反应溶液温度和浓度更均匀，反应液槽内的氧气得到有效去除，可以对高分子膜进行有效的紫外辐照处理。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

具体实施方式

参阅图1为本实用新型一种新型紫外辐照装置的实施例，一种新型紫外辐照装置，包括反应室1和温控系统两个部分，所述的反应室1包括紫外灯2、反应液槽5、密封盖板6、多孔隔板7、磁力搅拌器10、磁子11、进气管12和出气管13，所述的温控系统包括显示屏3、操作按钮4、温度传感器8和加热片9，所述的紫外灯2设置于反应室1内上顶部，所述的磁力搅拌器10设置于反应室内下底部，所述的加热片9设置于磁力搅拌器10的上方，所述的反应液槽5设置于加热片9的上方，所述的温度传感器8设置于反应液槽5内，所述的温控系统能够设定反应液槽5中反应溶液的温度，通过温度传感器8即时探测反应溶液的温度，并通过加热片9进行温度调节，所述的反应液槽5上端设置有密封盖板6，密封盖板6的材质为石英玻璃，所述的密封盖板6的右侧设置有进气管12，左侧设置有出气管13，能够去除反应液槽5内的氧气，所述的反应液槽5内设置有多孔隔板7，所述的磁子11放置于多孔隔板7的下方，能够阻止高分子膜与磁子11的接触，防止高分子膜被磁子11磨损，所述的磁力搅拌器10可以带动磁子11转动，使反应溶液的温度和浓度均匀。

以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型并不局限于以上描 述的具体实施例。任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围之中。