[实用新型]一种防溢出搅拌缸

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种搅拌缸，尤其涉及一种应用于分散机的防溢出搅拌缸。

背景技术

分散机在化工类企业使用，其主要用于对液态的化工原料进行搅拌分散、溶解。由于化工原料通常具有挥发性，因此，分散机对化工原料进行分散的过程中容易对操作人员和周围的环境造成影响，并且，部分化工原料受到光线照射后容易变质，因此需在阴暗的环境下进行加工和储藏。同时，由于分散机对液态的化工原料进行搅拌时，在离心力的作用下液态的化工原料容易溢出。

发明内容

本实用新型旨在解决上述所提及的技术问题，提供一种结构简单、防止液体在搅拌过程中溢出的搅拌缸。

本实用新型是通过以下的技术方案实现的：

一种防溢出搅拌缸，包括顶部开口的缸体和盖合于缸体顶部的缸盖，缸盖的中心位置设置有容纳外部的搅拌轴穿过的轴孔，所述缸盖通过卡扣的方式与缸体进行连接，缸盖底部的径向边缘处设置有若干与缸体进行连接的卡勾； 

所述缸盖为分体式结构，其由对称设置的左半盖和右半盖组成，左半盖和右半盖的底部均设置有所述卡勾，左半盖和右半盖分别设置有半圆状的左凹部和半圆状的右凹部，左凹部和右凹部共同构造成所述轴孔；

所述缸盖的底部还固接有若干吊杆，其中，每一条吊杆的底部均固接有使缸体内的液体倾斜向上运动的倾斜板；

所述缸体的顶部设置有支撑缸盖的凸条，凸条沿缸体的径向边缘延伸，凸条上设置有容纳卡勾进入的缺口。

进一步，所述缸盖包括平板状的盖体和设置于盖体上部中心位置的环形凸起，环形凸起的内侧构造成容纳外部的搅拌轴的空腔，环形凸起的内侧还设置有开口朝向搅拌轴的环形凹槽；左半盖和右半盖分别设置有半圆环状的左凸起和半圆环状的右凸起，左凸起和右凸起共同构造成所述环形凸起，左凸起和右凸起在朝向搅拌轴的内侧上分别设置有半圆环状的左凹槽和半圆环状的右凹槽，左凹槽和右凹槽共同构造成所述环形凹槽。

进一步，所述缸体的外壁上固设有环绕缸体的环形加强板，缸体的外壁上还设置有环绕缸体外围的防护圈，防护圈通过若干连杆与环形加强板进行连接固定；所述缸体的底部固设有托架，托架包括托盘和设置于托盘底部的至少3个万向轮组件。

进一步，所述环形加强板上还设置有若干用于将缸体进行起吊的吊钩。

进一步，所述凸条设置在缸体的内壁上。

进一步，所述倾斜板与水平面形成45度的夹角。

进一步，所述卡勾呈L形。

进一步，所述缸体接近于底部的位置设置有排液管，排液管上设置有球阀。

进一步，所述左凹槽和右凹槽的表面设置有的凹凸面层。

进一步，所述左半盖和右半盖上均设置有拉手。

有益效果是：本实用新型的防溢出搅拌缸，通过设置吊杆以及固设在吊杆底部的倾斜板，使得倾斜板能起到部分阻挡缸体内的液体转动的作用，并且液体与倾斜板接触时，需沿倾斜板的底部倾斜向上运动，离开倾斜板时则会在重力作用下落下，从而使得缸体内的液体可在不同的高度层之间进行充分搅拌；同时，由于倾斜板起到了使缸体内的液体进行倾斜向上运动的作用，则该倾斜板必然受到液体的反作用力，因而倾斜板通过吊杆使缸盖受到向下和沿液体的转动方向的作用力，从而既使缸盖能紧密地盖合在缸体的顶部，又能防止卡勾从凸条的缺口中脱落出来。由于缸盖被紧密地盖合在缸体的顶部，则能防止液体从缸盖和缸体之间的间隙溢出。通过在盖体上部的中心位置设置环形凸起，以减少外部光线直接射入缸体的内腔，起到遮光的作用。通过设置开口朝向搅拌轴的环形凹槽，以减少外部光线在搅拌轴与环形凸起之间经多次相互反射后进入到缸体的内腔，能使遮光效果更好。更进一步的，在环形凹槽的表面上设置凹凸面层，利用凹凸面层的漫反射作用，以最大限度地防止光线再次反射到搅拌轴，以实现对光线进行吸收的目的。由于缸盖设置成分体对称式结构，因此能很方便地打开或关闭缸体的顶部开口，而且不会与搅拌轴发生干涉。

附图说明

图1 为本实用新型的防溢出搅拌缸使用状态示意图；

图2 为图1中的防溢出搅拌缸的俯视图；

图3 为图2中的A-A剖视图；

图4 为图2中的左半盖示意图；

图5 为图2中的右半盖示意图；

图6 为图3中的B处放大示意图；

图7 为本实用新型的防溢出搅拌缸的卡勾进入凸条的缺口时的状态图；

图8 为本实用新型的防溢出搅拌缸工作状态下的卡勾与凸条的连接状态图。

具体实施方式