[实用新型]真空灭弧室电弧均布式电极结构有效

专利信息
申请号: 201420383372.2 申请日: 2014-07-12
公开(公告)号: CN204204733U 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 郎福成;杨书国;张建华 申请(专利权)人: 国家电网公司;国网辽宁省电力有限公司电力科学研究院;锦州华光玻璃开关管有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664;H01H33/18;H01H9/44
代理公司: 锦州辽西专利事务所 21225 代理人: 李辉
地址: 100031 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 真空 灭弧室 电弧 均布式 电极 结构
【权利要求书】:

1.一种真空灭弧室电弧均布式电极结构,包括杯座,杯座底面焊接有导电杆,杯座上沿焊接有托盘,托盘上焊接有触头片,所述杯座侧壁上设有多条螺旋槽,所述托盘和触头片上均设有与所述螺旋槽位置相对应的径向槽,所述支撑盘上设有一条纵向的通槽,其特征在于:所述杯座内设置有环状高导磁材料支撑盘,支撑盘上设有环状槽,支撑盘表面与所述托盘焊接。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室电弧均布式电极结构,其特征在于:所述支撑盘的内环位于杯座中央,支撑盘的外环与所述杯座的内壁之间留有缝隙,缝隙宽度小于等于0.5mm。

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