[实用新型]一种光胶滚涂机

说明书

技术领域

本实用新型属于加工设备，尤其涉及一种金属蚀刻片加工过程中的金属片材光胶滚涂机。

背景技术

金属蚀刻片是将金属片材经化学浸湿后得到的带有预定图文的金属结构，其被广泛的应用于集成电路领域以及用做外观装饰件。

现有的金属蚀刻片加工方法，一般是通过在金属片材上滚涂光胶，随后通过带有预设图案的光罩进行曝光使金属片材上留下图案化的光胶膜，随后通过化学浸蚀，将金属片材上没有覆盖光胶膜的部分腐蚀，留下的部分则形成金属蚀刻片。

光胶的滚涂直接关系到最终获得金属蚀刻片的图纹精度，现有技术进行光胶滚涂时可能造成光胶厚薄不均，较厚的区域在后续曝光过程中形成的图案化的光胶膜中无法被去除，造成最终产品上出现错误。

发明内容

针对现有的光胶滚涂技术存在的上述问题，本实用新型提供的技术方案的主要目的是：提供一种可实现光胶滚涂厚度均匀的光胶滚涂机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下的技术方案：

一种光胶滚涂机，其中，包括：

滚子，用于向一平面滚涂光胶；

设置于滚子轴向的第一刮板，用以刮平所述平面上的光胶；

设置于所述第一刮板与所述滚子之间的第二刮板，用以刮除所述滚子上的光胶；

所述第二刮板位置高于所述第一刮板。

本实用新型的另一方面，所述第一刮板上设有光胶流道，用以将光胶引入预定位置。

本实用新型的另一方面，所述第二刮板上设有导流孔，所述导流孔使所述第二刮板上的光胶流淌至所述第一刮板的所述光胶流道中。

本实用新型的另一方面，所述光胶流道为一斜槽。

本实用新型的另一方面，所述预定位置为一光胶回收容器。

通过对本实用新型技术方案的实施，可以获得以下技术效果：

1，第二刮板可刮除残留在滚子上的光胶，防止残留在滚子上的光胶滴落造成厚度不均；

2，第一刮板可刮平金属片材上的光胶层；

3，第二刮板上的导流孔和第一刮板上的光胶流道可收集第一刮板和第二刮板上刮下的光胶，防止光胶滴落，并可将收集的光胶回收。

附图说明

图1为本实用新型的光胶滚涂机的结构示意图；

图2为本实用新型的光胶流道的结构示意图。

具体实施方式

以下通过具体的实施例对本实用新型的技术方案进行说明，在与本实用新型的实用新型目的无冲突的前提下，下文中提到的实施例以及实施例中的技术特征可以相互组合。

如图1和图2所示，本实用新型提供一种光胶滚涂机，其中，包括：

滚子1，用于向一平面0滚涂光胶；

设置于滚子1轴向的第一刮板2，用以刮平平面0上的光胶；

设置于第一刮板2与滚子之间的第二刮板3，用以刮除滚子1上的光胶；

第二刮板3位置高于第一刮板1。

上述技术方案中，滚子1粘附光胶并通过在平面0上按预定方向滚动将光胶滚涂至平面0上，第一刮板2设置于背向滚子1滚动方向的一侧，用于将滚子1滚动进过的平面上的光胶层刮平，防止光胶厚度不均，第二刮板3设置于第一刮板2与滚子1之间，用于刮除滚子1上多余的光胶，防止光胶聚集并滴落到平面0上。其中，平面0为金属片材。

本实用新型的一种实施例中，第一刮板2上设有光胶流道21，用以将聚集在第一刮板2上的光胶引入预定位置。

本实用新型的一种实施例中，第二刮板3上设有导流孔31，导流孔31使聚集在第二刮板3上的光胶流淌至第一刮板2的光胶流道21中。

本实用新型的一种实施例中，光胶流道21为一斜槽。斜槽可引导其中的光胶在重力作用下流淌至预定位置。

本实用新型的一种实施例中，预定位置为一光胶回收容器（未于图中示出）。

上述的实施例仅是本实用新型的部分体现，并不能涵盖本实用新型的全部，在上述实施例以及附图的基础上，本领域技术人员在不付出创造性劳动的前提下可获得更多的实施方式，因此这些不付出创造性劳动的前提下获得的实施方式均应包含在本实用新型的保护范围内。