[实用新型]一种陶瓷上釉机

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生产设备领域，具体的涉及一种陶瓷上釉机。

背景技术

陶瓷在烧制前需要给陶瓷表面上釉，传统的上釉方式为人工上釉，上釉方法包括浸釉发和喷釉法等，采用人工上釉的方式缺陷在于耗费人力，生产效率低，上釉易不均匀，不合符现代陶瓷规模化和自动化的需求。

为解决该问题，申请公布号为CN103724053A的发明提供了一种旋转式陶瓷上釉机。该实用新型提供的旋转式陶瓷上釉机，包括底架、旋转架、用于带动旋转架旋转的电机和喷釉浆装置，所述喷釉浆装置包括釉浆箱、泵和若干喷浆管，泵的入口连通所述釉浆箱，泵的出口连通喷浆管，该种旋转式陶瓷上釉机，虽能够实现对毛坯的自动涂覆釉浆，但需要人工将毛坯放置工作位置，耗费人力，生产效率不高，且上釉过程中喷枪和毛坯相对位置不变，这样无法实现对毛坯的整体的均匀上釉。

实用新型内容

为克服现有技术中的不足，本实用新型提供一种自动输送毛坯，上釉均匀的陶瓷上釉机。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种陶瓷上釉机，其特征在于：包括主机架、横移机构、升降机构、吸胚机构和喷釉机构，所述横移机构包括行车、驱动电机和轨道，该轨道水平设置于主机架上，行车在驱动电机带动下可移动的设置于轨道上，所述升降机构设置于行车上，升降机构包括升降驱动和升降机架，升降驱动带动升降机架上下移动，所述吸胚机构包括吸胚盘、旋转电机、吸管、空心轴和抽气机，该抽气机与吸管相连通，空心轴由旋转电机带动可旋转的设置于升降机架上，空心轴的一端与吸管连通，一端与吸胚盘底部的中心孔连通，所述喷釉机构包括喷釉枪、输送泵、连接管和箱体，该箱体设置于主机架下方，喷釉枪设置于箱体内部并与输送泵连通，连接管连通箱体底部和输送泵。

进一步的，所述喷釉枪包括侧喷头和下喷头，侧喷头喷嘴沿水平方向，下喷头喷嘴竖直向上。

进一步的，所述下喷头为旋转喷头。

进一步的，所述吸管还包括旋转接头，旋转接头连接吸管和空心轴。

进一步的，所述升降驱动为液压缸。

由上述描述可知，本实用新型提供的一种陶瓷上釉机，可将胚体自动输送至上釉位置，节省人力，提高生产效率；胚体在喷釉过程边旋转边升降，上釉更均匀；通过控制胚体在喷枪头的停留时间，控制上釉厚度，使同一批产品上釉厚度相同。

附图说明

图1为本实用新型一种陶瓷上釉机的结构示意图。

图2为本实用新型一种陶瓷上釉机的胚体喷釉前的工作示意图。

图3为本实用新型一种陶瓷上釉机的胚体喷釉后的工作示意图。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

如图1所示，本实用新型一种陶瓷上釉机，包括主机架1、横移机构2、升降机构3、吸胚机构4和喷釉机构5，所述横移机构2包括行车21、驱动电机22和轨道23，该轨道23水平设置于主机架1上，行车21在驱动电机22带动下可移动的设置于轨道23上，所述升降机构3设置于行车21上，升降机构3包括升降驱动31和升降机架32，所述升降驱动31为液压缸，升降驱动31带动升降机架32上下移动，所述吸胚机构4包括吸胚盘41、旋转电机42、吸管43、空心轴44和抽气机45，该抽气机45与吸管43相连通，吸管43包括旋转接头431，旋转接头431连接吸管43和空心轴44，空心轴44由旋转电机42带动可旋转的设置于升降机架32上，空心轴44的一端与吸管43连通，一端与吸胚盘41底部的中心孔411连通，所述喷釉机构5包括喷釉枪51、输送泵52、连接管53和箱体54，该箱体54设置于主机架1下方，喷釉枪51设置于箱体54内部并与输送泵52连通，喷釉枪51包括侧喷头511和下喷头512，侧喷头511喷嘴沿水平方向，下喷头512喷嘴竖直向上，下喷头512为旋转喷头，连接管53连通箱体54底部和输送泵52。