[实用新型]一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机

说明书

技术领域

本实用新型涉及瓷砖加工领域，具体涉及一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机。

背景技术

在瓷砖加工领域淋釉机是一种十分常见的加工工具，主要用于为砖坯表面施底釉及面釉。

现有淋釉机的淋釉部件结构复杂、操作不便，同时在长时间使用后不易清洗，维护成本也较高，并且目前淋釉机所普遍应用的钟罩式淋釉部件施釉效果不够理想，经常会出现施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚，且会产生边缘波浪纹的现象。

因此，如何简化淋釉机的淋釉部件，同时避免淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚和产生边缘波浪纹的现象发生，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种直线淋釉部件及采用该部件的淋釉机，该直线淋釉部件在简化了现有的淋釉部件的同时，避免了现有的淋釉部件淋釉时施釉表面中间釉面薄两侧釉面厚现象的发生，同时也防止了边缘波浪纹的产生，并且该直线淋釉部件与现有技术相比可以极大的节约釉料和淋釉加工的时间，因而更为节能环保。

为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种直线淋釉部件，包括：

依次连接的直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩包括第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池和位于第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池之间的釉液缓冲挡板。

一种采用该直线淋釉部件的淋釉机，包括：

入釉装置和主体，其中入釉装置包括臂形支架、用于对臂形支架进行定位的臂形支架立柱及用于对臂形支架进行调节的臂形支架调节装置，臂形支架上设有上釉斗。主体包括支架和直线淋釉部件，支架上设置有接釉盘调节装置和直线淋釉部件调节装置，接釉盘调节装置上设置有接釉盘，直线淋釉部件设置于直线淋釉部件调节装置顶部；该直线淋釉部件包括直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，直线淋釉上罩设置于所述直线淋釉下罩之上，并与直线淋釉下罩相贴和，直线淋釉上罩中设置有釉液缓冲挡板，釉液缓冲挡板将直线淋釉上罩分为第一釉液缓冲池和第二釉液缓冲池。

从上述技术方案可以看出，本实用新型提供的直线淋釉部件通过设置直线淋釉上罩和直线淋釉下罩，取代了现有的钟罩式淋釉机上复杂的淋釉部件，从而在简化了结构使得清洗和使用更加方便的同时降低了维护的成本，并且弥补了现有的钟罩式淋釉部件在施釉时釉面上会出现边缘波浪纹的不足，进而改善了施釉效果，该直线淋釉部件通过第一釉液缓冲池、第二釉液缓冲池、釉液缓冲挡板及釉液溢流挡板的设置，可以对流入的釉液起到很好的缓冲作用，进而消除了釉液中的气泡，并且可以使得出釉更为均匀，同时该直线淋釉部件与现有技术相比可以极大地解决釉料和施釉时间，因此具有节能环保的优点。

本实用新型还提供一种采用该直线淋釉部件的淋釉机，由于该直线淋釉部件具有上述技术效果，因此采用该直线淋釉部件的淋釉机也同样具有上述技术效果。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1为直线淋釉部件的结构示意图。

图2为淋釉机的结构示意图。

图3为直线淋釉部件的左视图。

图4为直线淋釉上罩的俯视图。

其中：1、侧导流板；2、釉液流出口；3、第二釉液缓冲池；4、釉液缓冲挡板；5、第一釉液缓冲池；6、后挡板；7、下板；8、直线淋釉上罩；9、上罩导流侧壁；10、釉液溢流挡板；11、直线淋釉下罩；12、下罩导流板；13、臂形支架立柱；14、臂形支架调节装置；15、臂形支架；16、上釉斗；17、直线淋釉部件；18、接釉盘；19、接釉盘调节装置；20、直线淋釉部件调节装置；21、支架；22、入釉装置；23、主体。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本申请作进一步地详细说明。

在以下描述中，对“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语“根据本申请的一个实施例”虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。

为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。