[实用新型]曝光机真空密封夹有效
| 申请号： | 201420355409.0 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN203965799U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 连大学 | 申请（专利权）人： | 深圳市卓力达电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 黄良宝 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 真空 密封 | ||
【权利要求书】：
1.曝光机真空密封夹，包括有铰接的上框架和下框架，下框架上设有玻璃台面，上框架与下框架之间设有密封垫圈和气弹簧，在下框架上设有抽真空吸气口；其特征在于：所述的上框架上设有与下框架上的玻璃台面对应的光学玻璃。
2.根据权利要求1所述的曝光机真空密封夹，其特征在于：所述的上框架通过与光学玻璃一对侧边配合卡接。
3.根据权利要求2所述的曝光机真空密封夹，其特征在于：所述的卡接槽与光学玻璃之间设有密封圈或密封胶。
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