[实用新型]气门淬火传送装置有效

专利信息
申请号: 201420345148.4 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN203938701U 公开(公告)日: 2014-11-12
发明(设计)人: 李万军;赵代国;雷富强;朱进 申请(专利权)人: 重庆三爱海陵实业有限责任公司
主分类号: C21D9/00 分类号: C21D9/00;C21D1/62
代理公司: 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 代理人: 王明书
地址: 408000 *** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 气门 淬火 传送 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及气门淬火工艺设备,特别涉及气门淬火传送装置。

背景技术

为了达到气门的硬度等指标,气门会经过氮化、碳化等过程,氮化或碳化之后会对气门进行淬火,淬火后又要将气门进行回火处理,在淬火和回火之间通常要达到连续性,为了使得气门的连续运输性,现在常常将淬火池设置在较高处,让淬火后的气门通过双滑轨滑下进入提升机,再由提升机提升到回火炉中,在这个过程中,由于双滑轨通过重力进行输送,虽然在双滑轨处节省了部分能量,但是气门进入提升机前必须静止并单只进入,这时候气门在双滑轨上不能调速,使得连续不断的气门被堆积在双滑轨底端,这个过程常常会造成气门出现碰坏现象。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种气门淬火传送装置来解决气门易在容器的某处堆积的问题。

为了解决上述问题,本实用新型提供的气门淬火传送装置包括双滑轨、传送带、挡条和回流槽,所述传送带和挡条平行设置,传送带和挡条之间的缝隙小于气门盘的直径,大于气门杆的直径,所述双滑轨设置在传送带一端并高于传送带和挡条之间的缝隙高度,所述双滑轨之间的间隙与传送带和挡条之间的缝隙在同一竖直平面上,所述回流槽倾斜设置在双滑轨和传送带下方且倾斜方向与气门运输方向相反,所述回流槽与传送带下方之间的间距小于气门杆的长度。

使用本实用新型的优点在于:将原来单纯使用倾斜双滑轨换成水平运输,使得气门依靠重力使得气门下滑来传输,并且水平运输还使得气门能更加平稳,防止了倾斜的双滑轨产生气门撞伤和撞出的情况,双滑轨之间的间隙与传送带和挡条之间的缝隙在同一竖直平面,由于气门淬火后通过一条较短的双滑轨到达传送带位置,然后气门在传送带的作用下匀速的将气门运输到提升机处,并且通过传送带下方的回流槽将运输过程的淬火油回收起来,使得淬火油得以重新利用。

优选的,为了对加工数量有一个直观的了解,所述回流槽和传送带之间设置有计数器,计数器的传感器采用光电传感器;由于气门始终在水平的传送带上运行,气门杆平稳的进行移动,通过光电传感器可以对经过的气门进行计数统计。

优选的,为了使得气门的传输效率更高,所述传送带和挡条之间的缝隙相对竖直平面的倾斜角度为5~30度并且缝隙向传送带一边倾斜;由于缝隙向传送带方向倾斜,气门在运输过程的支撑力主要通过传送带提供,气门和传送带通过静摩擦将气门平稳的移动到提升机。

附图说明

图1是本实用新型实施例的气门淬火传送装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型技术方案进一步说明:如图1所示的气门淬火传送装置包括双滑轨5、传送带1、挡条2和回流槽6,传送带1和挡条2平行设置,传送带1和挡条2之间的缝隙小于气门盘的直径,大于气门杆的直径,双滑轨5设置在传送带1一端并高于传送带1和挡条2之间的缝隙高度,双滑轨5之间的间隙与传送带1和挡条2之间的缝隙在同一竖直平面上,回流槽6倾斜设置在双滑轨5和传送带1下方且倾斜方向与气门运输方向相反,回流槽6与传送带1下方之间的间距小于气门杆的长度。

水平运输和倾斜传输气门3能使其更加平稳,防止倾斜的双滑轨5产生气门3撞伤和撞出的情况,双滑轨5之间的间隙与传送带1和挡条2之间的缝隙在同一竖直平面,由于气门3淬火后通过一条较短的双滑轨5到达传送带1位置,然后气门5在传送带1的作用下匀速的将气门3运输到提升机处,并且通过传送带1下方的回流槽6将运输过程的淬火油回收起来,使得淬火油得以重新利用。

为了对加工数量有一个直观的了解,回流槽6和传送带1之间设置有计数器7,计数器7的传感器采用光电传感器;由于气门3始终在水平的传送带1上运行,气门杆平稳的进行移动,通过光电传感器可以对经过的气门3进行计数统计。

传送带1和挡条2之间的缝隙相对竖直平面的倾斜角度为5~30度并且缝隙向传送带1一边倾斜;由于缝隙向传送带方向倾斜,气门3在运输过程的支撑力主要由传送带1提供,气门3和传送带1通过静摩擦将气门3平稳的移动到提升机。在回流槽6的最低处设置有过滤装置8,回流槽6内的淬火油通过过滤装置8后,将淬火后的淬火油里面的金属氧化物进行过滤,得到洁净的淬火油,增加了淬火油的循环使用次数。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本实用新型结构的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些也应该视为本实用新型的保护范围,这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。

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