[实用新型]显微共聚焦荧光系统有效
申请号: | 201420344033.3 | 申请日: | 2014-06-18 |
公开(公告)号: | CN204044069U | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 励春亚 | 申请(专利权)人: | 象山星旗电器科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315700*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显微 聚焦 荧光 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及光致发光测量领域,尤其涉及一种显微共聚焦荧光系统。
背景技术
光致发光(Photoluminescence,PL),即指当外界光源照射物体时,物体吸收光子,电子从基态跃迁到激发态,当处于激发态的电子以辐射跃迁的方式返回基态时,能量以光的形式发出的现象。紫外辐射、可见光及红外辐射均可引起光致发光。光致发光可以提供有关材料的结构、成分及环境原子排列的信息,例如,在光致发光谱中,发光峰的峰位标明了某个具有相互作用的能级间的能量间隔;光谱结构的始端对应最低光子能量,标志着一种跃迁阈值;而光谱形状则是这种跃迁概率或是能态分布的表征。对于半导体纳米材料的光学性质研究,是十分有用的一种实验技术。通过研究实验中所得的光致发光谱,通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析,可以得出材料带隙、缺陷、杂质级能以及复合机制等信息。本实用新型提出一种显微共聚焦荧光系统对光致发光进行测量和分析。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供了一种显微共聚焦荧光系统,包括激光器、第一透镜、第一狭缝板、第二透镜、显微物镜、样品台、第一半反半透镜、滤波片、第二半反半透镜、CCD相机、第三透镜、第二狭缝板、第四透镜、光栅光谱仪、探测器以及计算机;所述激光器的激光发射方向依次设置有第一透镜、第一狭缝板、第二透镜、第一半反半透镜;所述第一半反半透镜将反射的激光通过显微物镜投射到样品台,并通过所述显微物镜收集样品台上样品由激光激发产生的光致发光的荧光;所述第一半反半透镜将收集的样品荧光一路透射至滤波片、第二半反半透镜至CCD相机;另一路透射至第三透镜、第二狭缝板、第四透镜至光栅光谱仪,所述探测器对光栅光谱仪聚焦的光进行探测,并将光信号转化为电信号后传输给计算机。
所述光栅光谱仪设置有第三狭缝板、第一球面反射镜、光栅、第二球面反射镜,所述第四透镜将光透射至第三狭缝板,经过狭缝入射至第一球面反射镜,第一球面反射镜将光通过光栅射向第二球面反射镜,第二球面反射镜将光反射至探测器。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一实施例提供的显微共聚焦荧光系统的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
图1为本实用新型一实施例提供的显微共聚焦荧光系统的结构示意图,如图1所示,本实施例的显微共聚焦荧光系统包括激光器1、第一透镜2、第一狭缝板3、第二透镜4、显微物镜5、样品台6、第一半反半透镜7、滤波片8、第二半反半透镜9、CCD相机10、第三透镜11、第二狭缝板12、第四透镜13、光栅光谱仪14、探测器15以及计算机16;所述激光器1的激光发射方向依次设置有第一透镜2、第一狭缝板3、第二透镜4、第一半反半透镜7;所述第一半反半透镜7将反射的激光通过显微物镜5投射到样品台6,并通过所述显微物镜5收集样品台6上样品由激光激发产生的光致发光的荧光;所述第一半反半透镜7将收集的样品荧光一路透射至滤波片8、第二半反半透镜9至CCD相机10;另一路透射至第三透镜11、第二狭缝板12、第四透镜13至光栅光谱仪14,所述探测器15对光栅光谱仪14聚焦的光进行探测,并将光信号转化为电信号后传输给计算机16。
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