[实用新型]双向瞬态电压抑制二极管有效
申请号: | 201420338708.3 | 申请日: | 2014-06-24 |
公开(公告)号: | CN204011437U | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 王艳春 | 申请(专利权)人: | 宁波比亚迪半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 315800 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 双向 瞬态 电压 抑制 二极管 | ||
1.一种双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底为重掺杂;
在所述衬底内形成有埋层,所述埋层掺杂浓度大于所述衬底掺杂浓度,所述埋层导电类型与所述衬底的导电类型相同;
在所述衬底的正面形成有外延层,所述外延层为轻掺杂,其导电类型与所述衬底的导电类型相同;
在所述外延层内形成有阱区,其导电类型与所述衬底的导电类型相反;
在所述外延层内,位于所述埋层上方的位置上形成有第一有源区,其导电类型与所述衬底的导电类型相同;
在所述阱区内,位于所述第一有源区水平的方向上同时形成有第二有源区和第三有源区,所述第二有源区和第三有源区具有相同的导电类型和掺杂浓度,其掺杂浓度大于所述外延层掺杂浓度,且其导电类型与所述第一有源区导电类型相同,所述第二有源区与所述第三有源区的形状相同,所述第二有源区和所述阱区形成的PN结面积与所述第三有源区和所述阱区形成的PN结面积之比为100:1-1:100;
在所述第二有源区和第三有源区的四周分别形成有第一保护环和第二保护环,其掺杂浓度小于所述第二有源区和第三有源区的掺杂浓度,且其导电类型与所述第一有源区导电类型相同,所述第一保护环和第二保护环的深度小于所述第二有源区和第三有源区的深度;
在所述埋层和所述第一有源区之间形成有导通层,所述导通层使所述埋层和所述第一有源区相连形成完整的电流通道;
在所述外延层之上形成有保护层,所述保护层上有若干个接触孔,使所述第一有源区、第二有源区和第三有源区部分暴露;
在所述保护层之上和所述接触孔内形成有互不相连的阳极金属层和桥接金属层;所述阳极金属层与所述第二有源区相连,所述第三有源区通过所述桥接金属层与第一有源区相连,所述阳极金属层覆盖所述第一保护环,所述桥接金属层覆盖所述第二保护环;
在所述衬底的背面形成有阴极金属层。
2.如权利要求1所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述第二有源区和所述第三有源区分别与所述阱区形成的PN结面积相等。
3.如权利要求1所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述第二有源区包括多个第二有源区单元,所述第二有源区单元均与所述阳极金属层相连,所述多个第二有源区单元的形状相同。
4.如权利要求3所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述第三有源区包括多个第三有源区单元,所述第三有源区单元均与所述桥接金属层相连,所述多个第三有源区单元与所述第二有源区单元的个数和形状相同。
5.如权利要求4所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述第二有源区单元和第三有源区单元分别与所述阱区形成的PN结面积相等。
6.如权利要求1所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述埋层包括多个间隔分布在所述阱区四周的埋层单体。
7.如权利要求1所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述埋层呈环型且环绕着所述阱区。
8.如权利要求1所述的双向瞬态电压抑制二极管,其特征在于,所述第一保护环和第二保护环形状和大小相同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波比亚迪半导体有限公司;,未经宁波比亚迪半导体有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420338708.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种钒电池用管路系统
- 下一篇:电路板及使用该电路板的半导体封装结构
- 同类专利
- 专利分类