[实用新型]研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201420291434.7 | 申请日： | 2014-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN204075988U | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 唐强;卢勇;张溢钢;马智勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 调整器 清洗 装置 化学 机械 | ||
1.一种研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，包括：清洗杯、固定于所述清洗杯的壁上的喷嘴、及固定于所述清洗杯上的第一清洗刷和第二清洗刷；所述第一清洗刷包括：第一滚轴、设置于所述第一滚轴上的刷毛、及与所述第一滚轴相连的第一驱动装置。
2.如权利要求1中所述的研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，所述喷嘴的数量为4-8个。
3.如权利要求1中所述的研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，所述喷嘴均匀分布在所述清洗杯的壁上。
4.如权利要求1中所述的研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，所述第一驱动装置为马达。
5.如权利要求1中所述的研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，所述第二清洗刷包括：第二滚轴、设置于所述第二滚轴上的刷毛、及与所述第二滚轴相连的第二驱动装置。
6.如权利要求5中所述的研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，所述第二驱动装置为马达。
7.一种化学机械研磨装置，其特征在于，包括：研磨站及设置于所述研磨站一侧的如权利要求1-6中任一项所述的研磨垫调整器清洗装置。
8.如权利要求7中所述的化学机械研磨装置，其特征在于，所述研磨站包括：研磨承载臂、固定于所述研磨承载臂上的研磨承载盘及研磨衬垫、及与所述研磨衬垫相接触的研磨垫调整器。
9.如权利要求8中所述的化学机械研磨装置，其特征在于，所述研磨垫调整器包括调整臂及与所述调整臂连接的调整件。
10.如权利要求7中所述的化学机械研磨装置，其特征在于，所述研磨站的数量为3个。
11.如权利要求7中所述的化学机械研磨装置，其特征在于，所述清洗垫调整器设置于所述清洗杯的上方。
12.如权利要求7中所述的化学机械研磨装置，其特征在于，所述清洗杯的截面尺寸大于所述研磨垫调整器的截面尺寸。
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