[实用新型]光成像系统及具有该光成像系统的投影成像系统有效
申请号: | 201420282679.3 | 申请日: | 2014-05-29 |
公开(公告)号: | CN203930303U | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 张佳;康栋;李关 | 申请(专利权)人: | 深圳市矽韦氏科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G02B3/00 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 系统 具有 投影 | ||
1.一种光成像系统,包括第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列,其特征在于,所述第一微凸透镜、第二微凸透镜相向间距设置或背向间距设置,各所述第一微凸透镜、第二微凸透镜的结构参数相同且焦距相等,所述第一微凸透镜阵列中各所述第一微凸透镜的光轴和所述第二微凸透镜阵列中第二微凸透镜的光轴一一对应并重合,第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列之间的距离为第一微凸透镜、第二微凸透镜的焦距的两倍或同一单位量级。
2.如权利要求1所述的光成像系统,其特征在于,所述第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列分设于第一基板和第二基板上相向的一面上。
3.如权利要求1所述的光成像系统,其特征在于,所述第一微凸透镜阵列和第二微凸透镜阵列分设于同一基板的两面上。
4.如权利要求3所述的光成像系统,其特征在于,所述基板的厚度为第一微凸透镜、第二微凸透镜的焦距的两倍或同一单位量级。
5.如权利要求2所述的光成像系统,其特征在于,所述第一基板、第二基板的表面镀设有增透膜。
6.如权利要求3所述的光成像系统,其特征在于,所述基板的表面镀设有增透膜。
7.如权利要求1至5中任一项所述的光成像系统,其特征在于,所述第一微凸透镜阵列、第二微凸透镜阵列的微结构单元呈正方形、长方形或六边形。
8.一种投影成像系统,包括光投射系统和反射成虚像系统,其特征在于,还包括如权利要求1至7中任一项所述且用于将光投射系统中的光线折射至所述反射成虚像系统的光成像系统。
9.如权利要求8所述的投影成像系统,其特征在于,所述光投射系统为光源采用RGB三色激光二极管的微投影仪。
10.如权利要求8或9所述的投影成像系统,其特征在于,所述反射成虚像系统包括用于将图像反射至眼睛的曲面反射镜或反射镜组合或反射镜组合和挡风玻璃。
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