[实用新型]真空蒸发镀膜均匀性调整装置有效
| 申请号： | 201420253844.2 | 申请日： | 2014-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN203960326U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 郭爱云 | 申请（专利权）人： | 红安华州光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 438400 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 蒸发 镀膜 均匀 调整 装置 | ||
【权利要求书】：
1.真空蒸发镀膜均匀性调整装置，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，其特征在于：所述均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，所述均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，所述均匀性调整装置包括安装座、支撑板和修正滑块，所述安装座与所述支撑板之间呈一定夹角设置，多个所述修正滑块并行排列安装在所述支撑板的两边，多个所述修正滑块宽度一致和长度不同。
2.根据权利要求1所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于：所述均匀性调整装置的安装直线平行于球形工件架基板放置区域连线。
3.根据权利要求2所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于：所述均匀性调整装置的安装直线与所述基板放置区域连线之间距离为100mm-200mm。
4.根据权利要求1所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于：所述均匀性调整装置为非导磁材料。
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